[实用新型]一种多功能组合式化学气相沉积系统装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种化学气相沉积(CVD)装置，具体涉及一种具有多种组合状态，可快速实现物体冷却及加热的滑动式化学气相沉积系统装置。

背景技术

CVD(化学气相沉积)是材料实验室研究薄膜技术的必备方法。通过薄膜研究至今，主要的CVD制备方式有低压CVD(LPCVD)，常压CVD(APCVD)，亚常压CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等离子体增强CVD(PECVD)，高密度等离子体CVD(HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)这几种。由于材料实验室的研究方式的不确定性，所以上述的几种设备都有被使用到的可能，不仅资金消耗巨大，而且维护起来也比较不方便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种多功能组合式化学气相沉积系统装置。

一种多功能组合式化学气相沉积系统装置，包括主体炉，所述主体炉包括带有导轨的支架，所述支架上设有可沿导轨滑动的高温管式炉，所述高温管式炉中的炉腔内设有穿透高温管式炉炉壁设置的炉管，该炉管两端固定在支架上，所述高温管式炉一侧设有冷却风扇；所述主体炉外可单独或组合加设连接在炉管上的真空泵、等离子发生器、密封法兰装置及强制制冷器。

本实用新型结构简单、组合方便，滑动式的加热冷却模块设计有效的实现了其快热快冷的功能需求，另外通过与等离子发生器等功能模块的组装配合使用，基本完成以上所有的CVD实验功能，极大的满足了所有材料实验室的材料制备方案。

附图说明

图1为本实用新型实施例1-3的结构示意图。

图2为本实用新型实施例4的结构示意图。

图3为本实用新型实施例5的结构示意图。

图4为本实用新型实施例6的结构示意图。

具体实施方式

实施例1

参见图1，本实用新型提供的一种多功能组合式化学气相沉积系统装置，包括主体炉1，所述主体炉1包括带有导轨1a的支架1b，所述支架1b上设有可沿导轨1a滑动的高温管式炉1c，所述高温管式炉1c中的炉腔1c-1内设有穿透高温管式炉1c炉壁设置的炉管1c-2，该炉管1c-2两端固定在支架1b上。

所述炉管1c-2的个数不限，平行支撑在支架1b上即可。

此时，将加热物体2放入高温管式炉1c炉腔1c-1内的炉管1c-2中，可作为常压CVD(APCVD)进行使用。

实施例2

本实施例与实施例1的不同之处在于：在所述支架1b上，高温管式炉1c一侧设有冷却风扇1d。

通过利用高温管式炉1c在导轨1a滑动，移动加热温区，可以迅速的加热物体，可作为快热CVD进行使用。将高温管式炉1c移开后冷却风扇1d可以迅速的冷却被加热物品，可作为快冷CVD进行使用，交替使用变实现了具有快热及快冷功能的CVD(RTCVD)。

实施例3

本实施例与实施例1的不同之处在于：在主体炉1一侧加设真空泵3，可以满足亚常压CVD(SACVD)、低压CVD(LPCVD)以及超高真空CVD(UHCVD)的使用。

实施例4

本实施例与实施例1的不同之处在于：参见图2，在主体炉1一侧加设等离子发生器4，可以满足等离子体增强CVD(PECVD)，高密度等离子体CVD(HDPCVD)的使用。

实施例5

本实施例与实施例1的不同之处在于：参见图3(本图主体炉1采用双炉管1c-2)，此时在主体炉1两侧同时加设双管密封法兰装置5，并在一端的双管密封法兰装置5外加设强制制冷器6，这样就可以实现大规模的薄膜制备并且可以最大限度的加快物料冷却速度。

实施例6

参见图4，将上述实施例3-5中加设的装置也可以组合起来使用，方便操作控制。

比如：在制备石墨烯等二维度材料和纳米碳管时，可更换0-1200℃的电阻加热管式炉，采用石英管做工作腔体；以及0-1600℃的硅钼/硅碳加热管式炉，采用莫来石管做工作腔体，加热区间也可以随意变化，可以有单温区以及多温区的多种区间加热方式。极大的满足了所有材料实验室的材料制备方案。