[实用新型]一种用于抛光机的压力圈有效
| 申请号： | 201220177113.5 | 申请日： | 2012-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN202668322U | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 张世波;胡孟君;徐国科;卢锋;刘建刚;张海英;周明飞;林晓华 | 申请（专利权）人： | 浙江金瑞泓科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 宋缨;孙健 |
| 地址： | 315800 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光机 压力 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于抛光机的压力圈，包括压力圈本体（1），其特征在于，所述压力圈本体（1）的表面上设有开槽结构（2）。
2.根据权利要求1所述的用于抛光机的压力圈，其特征在于，所述开槽结构（2）的间距为10*10mm、5*5mm或20*20mm。
3.根据权利要求1所述的用于抛光机的压力圈，其特征在于，所述开槽结构（2）的槽宽为1-3mm。
4.根据权利要求1所述的用于抛光机的压力圈，其特征在于，所述压力圈本体（1）的内直径为250-350mm，外直径为350-450mm。
5.根据权利要求1所述的用于抛光机的压力圈，其特征在于，所述压力圈本体（1）由绒毛结构的聚氨酯材料制成。
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