[实用新型]气体过滤处理结构、尾气处理系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉积(CVD)技术领域，特别涉及用于化学气相沉积工艺的气体过滤处理结构、尾气处理系统。

背景技术

MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种化学气相外延沉积工艺。它以III族、II族元素的有机化合物和V、VI族元素的氢化物等作为晶体生长的源材料，以热分解反应方式在石墨盘上进行沉积工艺，生长各种III-V族、II-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

在化学气相工艺过程中反应腔室中气体需要经过过滤系统，将气体中的颗粒等物质过滤，然后经过相应的化学处理过后才能向外部排放。具体地，请结合图1所示的现有的MOCVD设备的尾气处理系统的结构示意图。弯管30的一端与上游反应腔室10相连接，另一端与下游过滤器20相连，所述弯管30与过滤器20共同构成了MOCVD设备的过滤系统。来自上游反应腔室10的气体经过弯管30进入过滤器20，经过过滤器20过滤后的气体流向对应的化学处理部件。

在实际中，发现现有的MOCVD设备的利用率(uptime)偏低，无法满足应用的要求。

实用新型内容

本实用新型实施例解决的问题是提供了用于化学气相沉积工艺的气体过滤处理结构、尾气处理系统、延长MOCVD设备的尾气处理系统的过滤器的滤芯的使用寿命的方法和MOCVD设备的尾气处理方法，减小了流向下游过滤器的滤芯中的颗粒，从而延长了过滤器以及滤芯的使用周期，减少了化学气相沉积设备(包括MOCVD设备)因为清洗和或/更换过滤器而产生的停机时间，因而提高了化学气相沉积设备的利用率。

为了解决上述问题，本实用新型提供一种气体过滤处理结构，包括弯管，所述弯管的一端与上游反应腔室相连接，另一端与带有滤芯的过滤器相连接，所述弯管的转弯处设置有预收集过滤部件，所述预收集过滤部件沿气体流动的方向设置，所述预收集过滤部件的一端与弯管相连接，另一端封闭，用于对气体中的颗粒进行预收集过滤处理。

可选地，所述气体过滤处理结构用于MOCVD设备的尾气处理系统。

可选地，所述弯管上游设置有冷却结构，所述冷却结构用于对来自反应腔室的气体进行冷却处理，所述预收集过滤部件对所述冷却结构冷却后的气体进行预收集过滤处理。

可选地，所述预收集过滤部件与所述弯管结合为一体或可以相互分离。

可选地，所述预收集过滤部件采用一体成型的方式制作。

可选地，所述预收集过滤部件为管状。

可选地，所述预收集过滤部件内还设置有过滤网或滤芯。

可选地，所述过滤网或滤芯能够与所述预处理过滤部件相互分离。

可选地，所述预收集过滤部件的一端与所述弯管通过可拆卸联接方式结合为一体，所述预收集过滤部件的另一端封闭或所述预收集过滤部件的另一端具有可拆卸的端盖，该端盖使得预收集过滤部件形成容纳颗粒物质的空间。

可选地，所述预收集过滤部件的一端与所述弯管结合为一体，所述预收集过滤部件的另一端具有可拆卸的端盖，该端盖使得所述预收集过滤部件形成容纳颗粒物质的空间。

相应地，本实用新型还提供一种用于化学气相沉积工艺的尾气处理系统，包括所述的气体过滤处理结构。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

本实用新型提供的气体过滤处理结构中设置的弯管相连接的预收集过滤部件，气体自上游反应腔室流向下游的过滤器时，在设置于转弯处的预收集过滤部件中进行预收集处理，气体中的颗粒物质因为自身重力作用沉降于预收集过滤部件中，从而减少了对下游的过滤器及滤芯的沾污，延长了过滤器的使用寿命，减少了化学气相沉积设备(包括MOCVD设备)因为清洗或更换过滤器的停机时间，因而提高了化学气相沉积设备的利用率；

进一步优化地，所述弯管的上游设置有冷却结构，该冷却结构能够对气体进行冷却，有利于气体中的颗粒凝结，从而预收集过滤部件能够收集更多的颗粒，进一步减少流向下游的过滤器及滤芯的颗粒，进一步延长过滤器的使用寿命；