[实用新型]激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置

权利要求书

1.一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置，其特征是：装置包括脉冲激光光刻系统和电化学沉积装置，所述的激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接；所述的脉冲激光模块由脉冲激光器和控制器组成，控制器与脉冲激光器连接，脉冲激光器输出到达全反镜；控制器的输出功率在零和最大功率范围内连续调节；脉冲激光器采用氟化氩，氟化氩产生的波长为193nm的紫外冷激光，重复频率50HZ，平均功率6W，脉宽17ns；所述的光路传输模块由全反镜、扩束镜、分束镜和光闸依次顺序连接，光闸的缴光束输出至三维平台；所述的电化学沉积装置主要由计算机、电化学工作站、阳电极、阴电极、烧杯、磁力搅拌加热装置、连接组成；计算机与电化学工作站连接，电化学工作站的阳电极和阴电极的输出端分别与阳电极和阴电极连接，阳电极和阴电极插入至烧杯中，烧杯置于磁力搅拌加热装置中，在烧杯内有磁力转子。

2.根据权利要求1所述的激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置，其特征是：所述的三维移动模块包括三维移动平台、步进电机和计算机，三维移动平台、步进电机和计算机依次顺序连接。