[实用新型]卷绕镀膜磁控溅射阴极结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜装备，尤其涉及一种卷绕镀膜磁控溅射阴极结构。

背景技术

连续式卷绕溅射镀膜机已经在工业生产领域取得广泛使用，主要应用于在PETfilm等柔性基材上沉积金属、金属氧化物介质等形成各种具有某一特定功能的复合薄膜材料，如：汽车、建筑玻璃等隔热膜，ITO/PET透明导电膜等。该设备的技术集成度高，与工艺配合紧密，制造难度大，很多实际使用中的设备在结构上或工艺配置上都有它的独特性。

该类设备的主结构包括一个圆柱状金属材质的真空腔体，参考图1设备核心的工作机构—溅射阴极系统纵向布置于圆柱体的内腔壁上，根据要生产的产品功能要求，布置1至7套阴极系统不等，每一套阴极可以溅射不同的材料以实现产品要求的不同的功能膜层。目前，德国莱宝真空，韩国PNT，国内的中方盖德等公司都在生产销售同类设备，一般根据用户要求进行设计与定制。

对靶式平面磁控溅射阴极在实际生产中已经广泛应用，现有的一般采用二个单靶的靶面在一个平面的结构。一般情况下不影响其性能与使用。特别对于平板基材的连续式镀膜，这种结构是非常成熟的。二个单靶的靶面在一个平面的对靶在工作时产生的等离子体团是一个椭圆形的形状，等离子体团与阳极基板的接触区域大小受阴极靶面与阳极基板的距离（靶基距）较大影响，阴极材料的离化程度与二个单靶的距离有一定关系，二个因素对沉积效率有很大影响。对于卷绕镀膜使用的平面对靶，由于阳极基板是弧形，影响到基材与等离子体的接触面积，同时，由于靶基距是一个变化值，难于获得一个最理想的镀膜靶基距，沉积速率与沉积效果都受到了影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种气氛隔离效果好的卷绕镀膜磁控溅射阴极结构。

本实用新型的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种沉积速率高的卷绕镀膜磁控溅射阴极结构。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现：

一种卷绕镀膜磁控溅射阴极结构，包括阴极对靶，其特征在于：构成阴极对靶的两个阴极单靶之靶面具有夹角。

卷绕镀膜磁控溅射阴极结构，其特征在于：该卷绕镀膜磁控溅射阴极结构与弧形阳极基板配合使用，在垂直于弧形阳极基板之弧形轴心的平面内，所述两个阴极单靶之靶面之中垂线均通过弧形阳极基板之弧形的轴心点。

由于阳极基板是弧形，影响到基材与等离子体的接触面积，同时，由于靶基距是一个变化值，难于获得一个最理想的镀膜靶基距，沉积速率与沉积效果（均匀性）都受到了影响。采用阴极对靶方案，可以使基材与两个单靶形成的等离子体的接触面积保持一致，易于获得合适的镀膜基距，从而改善镀膜效率和沉积效果。

附图说明

图1是阴极结构应用于镀膜机的示意图。

图2是现有技术之阴极对靶的示意图。

图3是本发明之阴极对靶的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步详述。

参考图1，是阴极结构应用于镀膜机的示意图，真空镀室101内设置阴极小室102，阴极结构设置于阴极小室102内，阴极小室102朝向阳极基板103的一面具有开口。

参考图2，是现有技术中的一种阴极结构，这种结构包括成双例用的阴极靶104，也称阴极对靶，一对阴极靶104的工作面在一个平面内。

参考图3，本实用新型第一个实施例是一种阴极对靶，构成阴极对靶的两个阴极单靶202之靶面具有夹角。本实施例中，还包括弧形阳极基板201，在垂直于弧形阳极基板之弧形轴心的平面内(即图示的平面内)，所述两个阴极单靶202之靶面之中垂线203均通过弧形阳极基板之弧形的轴心点204。根据实际对比，本实施例的对靶在Si的氧化溅射镀膜中，沉积速率提高18%左右，在同样靶功率下，可提高上产速率11%。