[实用新型]一种双锥回转真空反应釜中的辅助反应结构有效
| 申请号: | 201220144485.8 | 申请日: | 2012-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN202570095U | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
| 发明(设计)人: | 林友钗 | 申请(专利权)人: | 上海德鸿高新材料有限公司 |
| 主分类号: | B01J3/04 | 分类号: | B01J3/04 |
| 代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 何新平 |
| 地址: | 201602 松江区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 回转 真空 反应 中的 辅助 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于化工机械设备技术领域,尤其涉及一种应用于双锥回转真空反应釜中的辅助反应结构。
背景技术
双锥回转真空反应釜主要包括机座、双锥筒体、真空管路和进出料口。在光纤二次被覆料PBT的生产中,双锥筒体内腔抽真空状态,反应物料以真空吸料的方式进入双锥筒体内腔,向夹套内通入热介质,使热介质与筒体内腔的物料进行热交换,再由真空泵将水分及反应副产物经真空管抽走,从而达到物料充分反应的目的。
在现有的双锥回转真空反应釜中,对于比重大、粘度大、易沉积的非均相反应物料,在筒体转动过程中不能使物料受热均匀,影响物料的反应质量和效率。另外,反应釜底部沉积的物料易造成物料反应不充分、大量物料粘壁的后果,还会在出料口附近出现物料死角,严重影响生产的正常进行。
实用新型内容
针对现有生产光纤二次被覆料PBT的双锥回转真空反应釜中,物料受热不均匀,进而影响物料的反应质量和效率的不足,本实用新型的目的是提供一种双锥回转真空反应釜中辅助反应结构。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:它包括至少一个设置于所述反应釜内腔中的横杆组,所述横杆组由至少两根平行于所述反应釜回转轴线的横杆组成。
进一步地,所述横杆组焊接于所述反应釜内壁上。
优选地,所述横杆由不锈钢材料制成。
本专利的效果在于:本实用新型的辅助反应结构,多个横杆在反应釜的内腔中高低交错设置,使得在反应釜的转动过程中,堆积的反应物料被横杆打散,物料与夹套内表面接触面大,其与夹套内的高温导热油热交换充分,避免了物料颗粒局部受热不均的现象,物料反应充分,生产效率高。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明;
图1为设有辅助反应结构的双锥回转真空反应釜的结构示意图;
图2为图1的A-A向的剖视图;
图中标号说明:
1-双锥筒体 2-第一横杆组
3-机座 4-第二横杆组
101-夹套 201-横杆一
202-横杆 203-横杆三
401-横杆I 402-横杆II
403-横杆III
具体实施方式
如图1所示,双锥回转真空反应釜由机座3和设置于机座3上的双锥筒体1组成,双锥筒体1具有可容纳导热油的夹套101,导热油输入管路与导热油输出管路通过第一空心转轴与夹套101的内腔连通。第二空心转轴与双锥筒体1内腔中的真空罩连通,第一空心转轴和第二空心转轴均通过轴承与机座3相连接。位于机座3内的传动机构带动第二空心转轴作回转运动,进而带动双锥筒体1沿空心转轴的轴线作回转运动。
结合图1和图2说明本实用新型的双锥回转真空反应釜中的辅助反应结构。它包括第一横杆组2和第二横杆组4,第一横杆组2设置于双锥筒体1的上部,第二横杆组4设置于双锥筒体1的下部。每个横杆组均由三根横杆组成,第一横杆组2的横杆一201、横杆二202和横杆三203平行且高低交错设置,横杆一201靠近双锥筒体1的入料阀,第二横杆组4的横杆I 401、横杆II 402和横杆三III403平行且高低交错设置,横杆I 401靠近双锥筒体1的卸料阀。横杆与双锥筒体1内壁均为焊接。当双锥回转真空反应釜用于粘度大且易沉积的物料反应,如本实施例中的光纤二次被覆料PBT的生产时,反应釜内交错设置的横杆能打散转动过程中堆积的物料,使物料与反应釜的内表面充分接触,进而使物料受热均匀,改善反应效果和效率,以提高产品的质量。
工作过程:以真空吸料的方式将反应物料吸入双锥回转真空反应釜中,加热装置的储油罐中流入适量的导热油并进行加热,储油罐内经过加热后的高温导热油通过导热油输入管路进入双锥筒体1的夹套101的腔室内。随着筒体的低速回转,反应物料在双锥筒体1内腔不断上下、内外成“菱形轨迹”运动,高温导热油与反应物料进行热交换,辅助反应结构打散转动过程中堆积的物料,反应后的蒸汽及副产物通过抽真空管连续不断地排出,达到物料充分反应的目的,反应后的产物通过双锥筒体1底部的卸料阀排出。夹套101内热交换后的导热油通过导热油输出管路及油泵流回到加热装置的储油罐中。
本领域技术人员应该认识到,上述的具体实施方式只是示例性的,是为了使本领域技术人员能够更好的理解本专利内容,不应理解为是对本专利保护范围的限制,只要是根据本专利所揭示精神所作的任何等同变更或修饰,均落入本专利保护范围。
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