[实用新型]一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置

权利要求书

1.一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，所述等离子体刻蚀室包括反应腔体及由反应腔体围成的反应空间，反应腔体上方从上到下依次设置绝缘窗口，气体供应环及盖板；所述等离子体刻蚀室内设有放置待处理基片的基座，其特征在于：

所述气体传送装置包括上表面和下表面，所述上表面包括一压合区和一气压监测区，所述压合区位于同一平面，与所述气体供应环的下表面接触；所述气体传送装置的下表面包括气体扩散区域，所述气体传送装置的下表面与所述盖板上表面有一结合面，所述盖板上表面的结合面上有一进气孔将反应气体源的气体传送到所述气体扩散区域；所述气压监测区上设置一通气孔，所述通气孔上方连接一压力测量装置，所述通气孔通过一管道和所述反应空间相通。

2.根据权利要求1所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的气体传送装置的气体扩散区域为一气槽，所述气槽一端设有气体出口，与所述气体供应环相通；所述盖板上表面的结合面上的进气孔和所述气槽的中心位置相对应。

3.根据权利要求1所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的气体传送装置下表面的气体扩散区域还包括第二气槽，所述盖板上表面的结合面上的另一进气孔和所述第二气槽的中心位置相对应。

4.根据权利要求3所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述绝缘窗口中心区域设置一气体入口，所述气体传送装置的上表面有一小孔与所述第二气槽连通，所述小孔上方连接一气体传送管，所述气体传送管和所述绝缘窗口中心区域的气体入口相连。

5.根据权利要求4所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的气体传送管穿通所述气体供应环，位于气体供应环的上方，其底部与气体供应环的上表面设有安装部件。

6.根据权利要求2或4所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的气槽边缘分别设置一圈由弹性材料制成的圆环，所述气体传送装置通过所述圆环和其下方的盖板接触。

7.根据权利要求1所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的压力测量装置通过一根管道与反应腔内部气体相通，所述管道与所述压力测量装置之间设置第三气槽，所述的气槽边缘设置一圈由弹性材料制成的圆环，所述气体传送装置通过所述圆环和其下方的盖板接触。

8.根据权利要求1所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的气体传送装置可以同时为一个等离子体刻蚀室的两个工作台供应反应气体。

9.根据权利要求8所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述气体传送装置的上表面设有两个小孔与所述第二气槽连通，两个小孔上方分别连接两个气体传送管，所述两个气体传送管分别和所述两个工作台的绝缘窗口中心区域的气体入口相连。

10.根据权利要求8所述的一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置，其特征在于：所述的两个工作台共用一个排气泵，所述两个工作台所处工作区域的内部气压相等。