[实用新型]一种屏蔽罩

说明书

技术领域

本实用新型涉及电子技术领域，尤其涉及一种屏蔽罩。

背景技术

为了提高手机、电脑等小型电子器件或大型通讯设备的抗EMI(电磁干扰)能力，通常会在其结构中设置金属材质制成的屏蔽罩，即利用电磁波无法穿透金属的原理对电路板上的元器件进行电磁屏蔽。屏蔽罩一般采用拉伸件或者折弯件，主要包括平板状的顶面和自顶面向下弯折的多个壁面，相邻壁面之间形成转角。

一种现有技术如申请日为2011年5月5日、申请号为201120139608.4的中国实用新型专利，公开了一种采用拉伸工艺加工的屏蔽罩，这类屏蔽罩的顶面、壁面和转角完全连为一体，因此屏蔽罩的密闭性较好，然而拉伸件的工艺精度通常较低，制成的屏蔽罩难以满足小型电子器件或者精密器件对于SMT(表面组装技术)和结构精度的要求。

折弯件的工艺精度相对较高，这类屏蔽罩的壁面由自顶面延伸出的折边向下弯折形成，转角由相邻的壁面合拢后自然形成。考虑到金属板材自身的厚度可能造成弯折工艺中的结构干涉现象，因此顶面与折边之间的折痕不能与顶面的角部完全平齐，而是将折痕设计在折边上且与顶角之间保持较小的余量，以确保弯折工艺顺利进行，然而由于该余量的存在，弯折成型的屏蔽罩在顶角处容易形成类似于正方体的缺口，相邻的壁面之间有时也无法完全合拢而形成缝隙，导致屏蔽罩难以完全密封，容易产生电磁波泄漏。

实用新型内容

本实用新型要解决的主要技术问题是，提供一种提高密封性的屏蔽罩。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种屏蔽罩，包括嵌套配合的屏蔽盖和屏蔽架，所述屏蔽盖包括第一顶面和与所述第一顶面相连的多个第一壁面，相邻两第一壁面之间具有与所述第一顶面的角部相连的屏蔽盖棱边，所述屏蔽盖棱边一侧的第一壁面端部延伸至所述屏蔽盖棱边，另一侧的第一壁面端部与所述屏蔽盖棱边之间留有屏蔽盖缺口；所述屏蔽架包括第二顶面和与所述第二顶面相连的多个第二壁面，相邻两第二壁面之间具有与所述第二顶面的角部相连的屏蔽架棱边，所述屏蔽架棱边一侧的第二壁面端部延伸至所述屏蔽架棱边，另一侧的第二壁面端部与屏蔽架棱边之间留有屏蔽架缺口；所述屏蔽盖棱边和屏蔽架棱边相贴合形成屏蔽罩转角，所述屏蔽盖缺口和屏蔽架缺口分别位于所述屏蔽罩转角的两侧。

一种实施方式中，所述屏蔽盖缺口的上沿延伸至所述第一顶面内部形成第一加工空位，且该上沿与所述屏蔽盖的第一顶面上对应的角部之间形成第一预留面。

进一步地，所述屏蔽架缺口的上沿延伸至所述第二顶面内部形成第二加工空位，且该上沿与所述屏蔽架的第二顶面上对应的角部之间形成第二预留面。

所述屏蔽盖的至少一个第一壁面和屏蔽架的至少一个第二壁面上分别设有定位凸点和定位孔，或所述屏蔽盖的至少一个第一壁面和屏蔽架的至少一个第二壁面上分别设有定位孔和定位凸点，所述定位凸点嵌入所述定位孔。

一种实施方式中，所述屏蔽架嵌置在所述屏蔽盖内部，所述屏蔽架的厚度不小于屏蔽盖的厚度。

一种实施方式中，所述屏蔽架的第二顶面包括边框、加强筋和中心支撑部，所述边框的外侧与所述第二壁面相连，内侧通过加强筋与所述中心支撑部相连。

进一步地，所述中心支撑部包括磁性吸盘。

进一步地，所述边框与加强筋的连接处设有易折凹槽。

一种实施方式中，所述屏蔽盖的第一顶面的轮廓为矩形，所述第一壁面具有四个，所述屏蔽架的第二顶面的轮廓也为矩形，所述第二壁面也具有四个。

一种实施方式中，所述屏蔽盖上两个相对的第一壁面在两端都预留屏蔽盖缺口，另外两个相对的第一壁面两端都延伸至对应的屏蔽盖棱边；所述屏蔽架上两个相对的第二壁面在两端都预留屏蔽架缺口，另外两个相对的第二壁面两端都延伸至对应的屏蔽架棱边。

本实用新型的有益效果是：本实用新型屏蔽罩为采用屏蔽盖和屏蔽架嵌套配合而形成的层叠结构，由于屏蔽盖的有些第一壁面和屏蔽架的有些第二壁面分别留有屏蔽盖缺口和屏蔽架缺口，并不需要弯折形成的所有壁面的端部都延伸至屏蔽罩转角处，因此不会由于各壁面对应的折痕与顶面之间预留余量而在屏蔽罩的顶角处形成类似于正方体的缺口；装配时，两个缺口分别错开设置在屏蔽罩转角的两侧，使屏蔽盖缺口被延伸至屏蔽罩转角的第二壁面完全封闭，屏蔽架缺口被延伸至屏蔽罩转角的第一壁面完全封闭，且延伸至屏蔽罩转角的第一壁面和第二壁面正好能够完全合拢，因此不会形成缝隙，因此本实用新型屏蔽罩实现了无缝配合，有效提高了屏蔽罩的密封性能，减少了电磁波泄漏的隐患。