[实用新型]一种新型涂抹器改良结构

权利要求书

1.一种新型涂抹器改良结构，其包括：

一本体，本体内部设有一容置空间，其前方设有一中央具穿孔的头部，该本体后方两侧设有扣孔及凹部，其上方后端设有止孔，本体的头部下方设有一内缩的下套部，下套部两侧设有具二扣块的滑槽；

一护盖，系设于本体的头部的下套部，其上设有至少二个弹性孔且内部两侧设有对应头部至少二个扣块及滑槽的具嵌凹的滑块；

一修正带体，系设于本体的容置空间并凸出于头部中央穿孔，其包括有一上盖及一下座，上盖系设于具有修正带模块件的下座上方，上盖后方设有对应本体的上方后端止孔的止凸，下座内设有具修正带的修正带模块件，而该下座前端延伸一体成型设有呈水平凸出于本体的头部的穿孔且具穿缝的切刀座，切刀座端部则设有切刀，而下座的后端两侧设有对应本体的扣孔及凹部的扣块与尾部。

2.如权利要求1所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：其本体的前方两侧设有多个凸粒。

3.如权利要求1或2所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：其本体下方后端设有一定位凹。

4.如权利要求1或2所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：其本体上方前端设有指孔。

5.如权利要求3所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：其本体上方前端设有指孔。

6.如权利要求3所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：其修正带体的下座后端下方设有对应本体上所设定位凹的定位凸。

7.如权利要求5所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：其修正带体的下座后端下方设有对应本体上所设的定位凹的定位凸。

8.如权利要求1或2所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：护盖外侧设有多个凸块。

9.如权利要求3所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：护盖外侧设有多个凸块。

10.如权利要求4所述的一种新型涂抹器改良结构，其特征在于：护盖外侧设有多个凸块。