[实用新型]一种用于稳定水浴槽中容器的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体液态源扩散生产领域，特别是一种应用于稳定水浴槽中的容器的装置，适用于绝大多数水浴槽中容器的稳定以及固定，包括水浴实验以及生产中水浴槽中的容器的稳定，属于实验以及生产过程中的稳定装置。

背景技术

现有的水浴容器的固定经常使用的是铁架台或者依靠容器本身重力作用进行稳定。通过铁架台固定，由于铁架台需要使用铁夹以及铁臂，且对容器的形状有一定的要求，因此使用上存在很大的不方便，而且对周围的空间以及环境有一定的要求，容易污染水浴槽中循环水。而依靠容器本身重力来固定，更是对容器的要求较高。而且实际的实验以及生产过程中，经常发生由于容器固定不理想造成的实验以及生产的事故，造成实验以及生产的浪费。鉴于上述情况，亟待设计一种新型的用于稳定水浴槽中容器的装置。

实用新型内容

本实用新型目的是克服现有技术中的不足，提供了一种用于稳定水浴槽中容器的装置。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：一种用于稳定水浴槽中容器的装置，包括:水浴槽和容器，其特征在于：还包括一基座，该基座顶面上设有一吸盘且该吸盘的吸面朝上；所述容器底部通过该吸盘与基座连接，并一同置入所述水浴槽内。由于本装置具有吸盘的独创设计，各式各样的水浴容器都可以使用本装置固定，兼容性强，使用方便。

优选地，所述基座为橡胶材料，使得基座不易与水溶液发生化学反应，保证试验生产环境不会受到污染，并且延长了本装置的使用寿命。

优选地，所述基座内部填设有金属块，该金属块的自身重力要远大于容器、基座、吸盘三者所受到水浴槽中溶液提供的浮力，确保容器牢牢稳定在水浴槽内，不会发生倾斜以及漂浮的情况，防止由于倾斜导致的各种实验或者生产的不便，安全可靠。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作详细说明。

图1中所示的是一种用于稳定水浴槽中容器的装置，包括:盛满水溶液6的水浴槽1和容器2，其特征在于：还包括一橡胶材料制作的基座3，该基座顶面上设有一单面吸盘4且该吸盘的吸面朝上，用于吸附容器；所述容器底部通过该吸盘与基座连接，并一同置入所述水浴槽内。在所述基座内部填设有金属块5，可根据容器的大小重量和水浴槽的结构调整基座的形状和金属块的重量，使得容器始终垂直地竖立在水浴槽中，从而保证正常的生产。

使用时，先将基座上的吸盘吸面吸附于容器瓶底，接着，将容器和基座（容器位于上方，基座位于下方）置于水浴槽中需要固定的位置，由于基座将容器的整体重心下拉，慢慢地，基座沉到水浴槽的底部，并使容器牢牢固定在水浴槽内，避免了容器内液体使用过半后发生漂移以及倾侧。

以上仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

本实用新型的优点：结构简单，使用方便，实用性强，特别是安装拆卸容易，可以循环利用，不需占用额外的空间，对各类水浴容器兼容性非常强，水浴过程中不会发生倾斜以及漂浮的情况，防止由于倾斜导致的各种实验或者生产的不便，安全可靠。