[实用新型]ITO薄膜材料

说明书

【技术领域】

本发明涉及电子材料技术，特别是涉及一种ITO薄膜材料。

【背景技术】

掺锡氧化铟(即Indium Tin Oxide，简称ITO)，是一种n型半导体材料，由于具有高导电率、高可见光透过率、高机械硬度和化学稳定性，因此，它是一种常用的透明导电材料，运用于各类产品透明电极。在实际的运用中，ITO先是采用物理真空方法蒸镀于一定的基材，制备成ITO导电层，然后根据需要，将薄膜蚀刻成预定的图案作为透明电极。

PET基材的ITO导电层作为电极的运用中，是被蚀刻成预定的图案。由于ITO的膨胀系数与基材的膨胀系数差异巨大，导致ITO导电层蚀刻区域与ITO导电层非蚀刻区域的应力差异显著，在经过一次完整的银浆烘烤热历程(升温---恒温---降温)后，在ITO非蚀刻区域产生明显的应力差弯曲形变，类似具有温度记忆功能双金属贴片之形变。在贴合成电容式触摸屏后，应力差弯曲形变仍然存留在ITO膜表面不会消失。在一般光线及视角下就可以发现此ITO的形变，这种现象不能被高品质的显示触摸产品所接受。

【发明内容】

鉴于上述状况，有必要提供一种可有效减轻ITO电极表面形变可视性的ITO薄膜材料。

一种ITO薄膜材料，包括：

基材，包括第一表面及与所述第一表面相对的第二表面；

ITO导电层，附着于所述第一表面和第二表面中的一个上，并形成预定的图案；及

高温保护膜，贴合于所述第一表面和第二表面中未附着所述ITO导电层的一面。

进一步地，所述基材的表面上设有防眩条纹和/或硬化层。

进一步地，所述基材为单层的对苯二甲酸乙二醇酯。

进一步地，所述高温保护膜的材质为对苯二甲酸乙二醇酯。

进一步地，所述高温保护膜的厚度为0.025～0.25毫米。

上述ITO薄膜材料，在基材上贴合有高温保护膜，由于增加高温保护膜后，所制备的ITO薄膜材料的厚度相较于无高温保护膜产品要厚，且结构强度要高，因此经过银浆烘烤后，在ITO导电层的蚀刻区与非蚀刻区之间不会产生明显的应力差弯曲变形。因此，采用上述ITO薄膜材料制备的ITO电极可有效减轻其表面形变的可视性。

【附图说明】

图1为一实施例的ITO薄膜材料的结构示意图。

【具体实施方式】

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，本发明较佳实施例的ITO薄膜材料100包括基材110、ITO导电层120及高温保护膜130。

基材110包括第一表面及第二表面，其中第一表面与第二表面相对设置。基材110的材质可为玻璃或对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。在本实施例中，基材110优选为PET，其中PET既可为单层的，也可为双层的。基材110的厚度为0.020～0.250毫米。在本实施例中，基材110表面设有防眩条纹(图未示)和/或硬化层(图未示)，防眩条纹(图未示)和硬化层可以设于基材110的一个表面上，也可以是两个表面上。

ITO导电层120附着于基材110的第一表面和第二表面中的一个上。在本实施例中，采用蒸镀的方式形成ITO导电层120，蒸镀形成ITO导电层120的纯度高、易于检测和控制厚度，且无需进行加热烘干。在实际生产中，要将ITO导电层120做成电极需先将ITO导电层120蚀刻成预定的图案。本实施例中，采取激光干刻的方式得到预定的图案。在其他实施例中，还可以通过其他方式如化学蚀刻得到预定的图案。