[实用新型]一种用于形成取向膜的转印版有效

专利信息
申请号: 201220093608.X 申请日: 2012-03-13
公开(公告)号: CN202472187U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 鲁姣明;柳在健 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 形成 取向 转印版
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及液晶显示器的制造领域,尤其涉及一种用于形成取向膜的转印版。 

背景技术

在液晶显示装置中,为了得到均匀的亮度和高的对比度,必须使液晶面板内的液晶分子沿一定方向排列,因此,为了使液晶分子沿一定的方向排列,例如,将聚酰亚胺(Polyimide)取向液等涂覆在基板上,形成取向膜。 

如图1所示,为了在基板10上形成取向膜,首先,通过喷嘴11将取向液排出到均胶辊(Anilox Roll)12上,这时,通过刮刀13将排出的取向液均匀地涂布在均胶辊12上,然后,将已涂布的取向液印刷到预先形成图形的转印版(APR Plate)14上,已印刷到转印版14上的取向液通过涂布辊(Coating Roll)15涂布到基板的取向液形成取向膜。 

如图2所示,图2是表示现有技术中取向膜形成用转印版的平面图和沿A-A′截面图。现有技术中的取向膜涂布使用的转印版包括有基膜21和APR(Asai Kasai Photosensitive Resin,光敏树脂)层22两层结构,所述APR层22上形成有分布均匀的网点,称为活性区200。由于对应液晶显示器基板上不同的位置,活性区200分为有源区201以及边缘区202,以图2中的假想虚线203以内为有源区201,假想虚线203以外为边缘区202,其中,有源区201为所述转印版对应所述液晶显示面板的有效显示区域,边缘区202为假想虚线203到活性区200边缘的区域。所述在液晶显示器基板上形成取向膜时,由于转印版边缘区域202上受到的涂布压力大于有源区201上的涂布压力,使得在液晶显示器基板上的取向膜在边缘区202所对应区域厚度大于有源区201所对应的区域,进而使得设置于液晶显示器中的液晶层的厚度产生差异,影响到液晶显示器的显示质量。 

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种用于形成取向膜的转印版,通过对转印版上的网点结构进行调整,使边缘区的取向液量小于有源区取向液量,解决了取向膜厚度不均匀的问题。 

为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案: 

一种用于形成取向膜的转印版,包括基膜和设置于所述基膜上的光敏层,所述光敏层上设置有分布密度均一的网点,所述光敏层包括有源区和边缘区,所述有源区的网点之间的空隙体积大于所述边缘区的网点之间的空隙体积;其中,所述有源区为所述转印版对应所述液晶显示面板的有效显示区域的区域,所述边缘区为所述转印版对应所述液晶显示面板的有效显示区域边缘到所形成的取向膜边缘的区域。 

所述有源区的网点高度与所述边缘区的网点高度相同,并且所述有源区的网点直径小于所述边缘区的网点直径。 

所述有源区的网点直径为38μm-42μm,所述有源区的网点高度为10μm-15μm,所述边缘区的网点直径为42μm-58μm,所述边缘区的网点高度为10μm-15μm。 

所述有源区的网点直径与所述边缘区的网点直径相同,并且所述有源区的网点高度大于所述边缘区的网点高度。 

所述有源区的网点高度为15μm-20μm,所述有源区的网点直径为38μm-42μm,所述边缘区的网点高度为10μm-15μm,所述边缘区的网点直径为38μm-42μm。 

所述转印版有源区的网点与所述边缘区的网点的网点线的角度均为75°。 

所述转印版有源区的网点与所述边缘区的网点密度均为每英寸400线数。 

所述转印版有源区的网点之间的距离为62μm,所述边缘区的网点之间的距离为62μm。 

所述有源区的网点直径小于所述边缘区的网点直径,并且所述有源区的网点高度大于所述边缘区的网点高度。 

本实用新型提供的一种用于形成取向膜的转印版,通过对转印版 上的网点结构进行调整,使边缘区的取向液量小于有源区取向液量,从而实现了转印版在形成取向膜时,形成厚度均匀的取向膜,进而减小了液晶基板的厚度差异,提高了液晶显示器的显示效果。 

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。 

图1为现有技术中取向膜涂布的立体图; 

图2为现有技术的取向膜形成用转印版的平面图和剖面图; 

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