[实用新型]一种高效絮凝装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及水处理净化过程中的絮凝装置。

背景技术

絮凝装置是水处理净化过程中十分重要的装置。絮凝装置应有利于被处理水体中的颗粒充分聚集而形成絮凝体，以有利于提高后续沉淀处理的效果。现有的絮凝装置中有一种涡流式的絮凝装置，涡流式絮凝装置包括含有絮凝腔的壳体，所述壳体的下段为下锥式圆锥体，上段为圆筒体，所述下锥式圆锥体的底部有进水口，底端部有排泥口，所述圆筒体上部有出水口，被处理的水体由底端部的进水口进入下锥式圆锥体，形成涡流并扩散，水流呈螺旋状旋转上升并形成一定的搅拌强度，与进入圆筒体后的上升速度有机结合，实现流速由强到弱的过渡，而完成整个絮凝过程，具有水力停留时间短(6-10min)和体积小的优点，但由于水流在沿下锥式圆锥体螺旋状旋转上升过程中所形成微涡旋的数量比例低，因此，影响絮凝效果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提出一种可有效提高絮凝效果的高效絮凝装置。

本实用新型的技术方案包括：含有絮凝腔的壳体，所述壳体的下段为下锥式圆锥体，上段为圆筒体，所述下锥式圆锥体的底部有进水口，底端部有排泥口，所述圆筒体的上部有出水口，其改进是，在所述壳体的絮凝腔内设置由若干层带有通孔的分配板组成的组合式碟形絮凝构件，所述组合式碟形絮凝构件与所述壳体连接；所述组合式碟形絮凝构件，可改变水流方向和速度，增加颗粒碰撞次数或机率，可大幅度地提高微涡旋的数量比例。

本实用新型的技术效果是，由于在絮凝腔内设置组合式碟形絮凝构件，使得水流在下锥式圆锥体内形成较大涡旋或涡流上升的过程中而进入组合式碟形絮凝构件时，组合式碟形絮凝构件中的分配板则不断改变水流的方向和流速，使较大的涡旋破碎并持续地变小，形成微涡旋，大幅度提高水流中微涡旋的数量比例，同时增加颗粒碰撞次数或机率，使水流中的颗粒充分聚集，从而有效提高絮凝效果，与现有絮凝装置比，在处理相同设计流量、投药量、絮凝水力停留时间6-10min的情况下，对后续沉淀处理的杂质颗粒去除效率可提高10％—20％。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图，确定为摘要附图；

图2为图1的A-A视图；

图3为所述组合式碟形絮凝构件5的结构放大图。

具体实施方式

    参见图1、图2。本实用新型包括含有絮凝腔1a的壳体1，所述壳体的下段为下锥式圆锥体1b，上段为圆筒体1c，所述下锥式圆锥体1b的底部有进水口2，底端部有排泥口3，所述圆筒体1c的上部有出水口4，所述壳体的絮凝腔1a内设置由若干层带有通孔的分配板组成的组合式碟形絮凝构件5，所述组合式碟形絮凝构件5通过连接构件6与所述壳体连接并固定，且连接的结构形式有多种；所述圆筒体1c的上端部有一溢流槽体1d，溢流槽体1d的溢流槽分别与圆筒体1c的上端口和所述的出水口4相通，设置所述溢流槽体，可使絮凝腔1a内的水流沿圆筒体1c端口均匀地排入溢流槽，然后再由出水口4排出，有利于本装置的稳定运行。

图3为所述组合式碟形絮凝构件5的结构放大图。图示中，所述组合式碟形絮凝构件5的分配板501为11层，分别连接于轴502上，所述组合式碟形絮凝构件5的分配板501还可为其他数量的若干层；相邻的分配板501之间的距离由下至上逐渐由小增大，以适应水流由下至上紊流的衰减规律；所述若干的分配板501中包括斜状通孔分配板501a和竖状通孔分配板501b，所述斜状通孔分配板501a与竖状通孔分配板501b相间布置，且相邻的斜状通孔分配板501a上的通孔轴线与竖状通孔分配板501b上的通孔轴线相互错开，各分配板上的通孔数量及其截面积根据处理水量确定；其作用是：一是改变水流方向并增加颗粒碰撞次数或机率，以有利于颗粒的聚集而形成絮凝体，二是使较大涡旋的水流经由多层分配板上的若干通孔分流破碎后持续地变小，形成微涡旋，大幅度提高水流中微涡旋的数量比例，以满足水流中的颗粒充分聚集，进一步提高絮凝效果。

本实用新型的工作过程是，经前级处理后的水体由进水口2切向进入絮凝腔1a内，形成较大的涡旋或涡流状态上升而进入组合式碟形絮凝构件5，并由下至上先后经由多层的竖状通孔分配板501b和斜状通孔分配板501a，不断改变水流方向并增加颗粒碰撞次数或机率，并大幅度增加微涡旋数量，且水流上升的速度由快变缓，实现水流中的颗粒充分聚集并形成絮凝体，然后由出水口4排出进入后续的沉淀处理。

     本实用新型申请文件中所描述的各种实施结构和对本实用新型技术方案范围内的其他任何变型结构均属于本实用新型的保护范围。