[实用新型]一种上转位装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及链式清洗、刻蚀设备，尤其是涉及一种链式湿法刻蚀设备的上转位装置。

背景技术

现有链式湿法刻蚀设备通常采用传动杆转动来带动硅片朝前运动，但是，以前链式湿法刻蚀设备的结构设置使得硅片不能旋转，导致硅片边缘刻蚀不均匀，从而影响硅片的质量。为了解决这一问题，现有采用下旋转的方式让硅片旋转一定角度来提升硅片刻蚀均匀性。如图2所示。现有链式湿法刻蚀设备的下旋转装置包括可升降的旋转轴81和位于旋转轴81前端的吸盘82。工作时，旋转轴81上升，吸盘82吸附位于传动杆83上的硅片84，然后旋转轴81再旋转，从而保证传动杆83上的硅片84回转一定的角度。该种方式虽然也能实现硅片旋转，但是，由于吸盘直接与硅片接触，因此，吸盘内的凝结水污染硅片，从而影响硅片的质量。

实用新型内容

本实用新型为了解决现有技术链式湿法刻蚀设备采用下旋转的方式让硅片旋转一定角度，吸盘直接与硅片接触，吸盘内的凝结水污染硅片，从而影响硅片的质量的技术问题，提供了一种上转位装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为设计一种上转位装置，所述上转位装置包括可旋转的旋转轴、设于旋转轴底端且可随所述旋转轴旋转的非接触吸盘、与所述旋转轴固定连接且设于非接触吸盘两侧的吸盘固定杆和设于吸盘固定杆底端且与所述非接触吸盘错开通气的辅助吸盘，所述非接触吸盘的底端高于所述辅助吸盘的底端。

所述吸盘固定杆为空心杆，且与所述辅助吸盘相通，所述空心杆的顶端连接有用于进气的进气管。

本实用新型通过设置非接触吸盘和辅助吸盘，吸附时，利用非接触吸盘产生的吸力吸附硅片，并利用辅助吸盘支撑吸附的硅片，然后通过旋转轴的旋转带动硅片旋转。由于辅助吸盘的底端低于非接触吸盘的底端，因此，硅片不与非接触吸盘接触，而只与辅助吸盘接触，而由于辅助吸盘与非接触吸盘错开通气，从而在不吸附时，辅助吸盘通气，可防止辅助吸盘内凝结水，避免辅助吸盘与硅片直接接触时对硅片的污染，提高了硅片的质量。

附图说明

下面结合实施例和附图对本实用新型进行详细说明，其中：

图1是本实用新型上转位装置的结构示意图；

图2是现有技术下转位装置的结构示意图。

具体实施方式

请参见图1。本实用新型上转位装置包括旋转轴1、非接触吸盘2、吸盘固定杆3和辅助吸盘4。其中：旋转轴1主要用于旋转，以带动非接触吸盘和硅片5旋转。硅片5置于传动杆6上方。非接触吸盘2设于旋转轴底端且可随所述旋转轴旋转，其主要用于产生吸力吸附硅片5。吸盘固定杆3与所述旋转轴固定连接且设于非接触吸盘两侧，主要用于支撑。在本具体实施例中，吸盘固定杆为空心杆，且与所述辅助吸盘相通，所述空心杆的顶端连接有用于进气的进气管。辅助吸盘4设于吸盘固定杆底端且与所述非接触吸盘错开通气的，所述非接触吸盘的底端高于所述辅助吸盘的底端。

本实用新型的工作原理为：

第一步：当硅片5运行到上转位装置下方时，吸盘固定杆3的顶端进气通过辅助吸盘吹出，以保证辅助吸盘的干燥；

第二步：非接触吸盘2通气，产生吸力将硅片5吸上，由辅助吸盘4支撑硅片。此时，辅助吸盘不通气；

第三步：旋转轴1旋转带动非接触吸盘2和辅助吸盘4旋转，从而带动硅片5旋转；

第四步：停止非接触吸盘2通气，同时使辅助吸盘通气，放下硅片5于传动杆6上。从而完成硅片的旋转。

在本实用新型中采用了上吸式、非接触吸盘使硅片旋转，解决刻蚀均匀性问题，同时在不吸片的过程中，在负责支撑硅片的辅助吸盘4中通入空气，有效防止辅助吸盘内凝结水污染硅片，且由于整个上转位装置设置在传动杆的上方，装配、维修较为方便。

本实用新型通过设置非接触吸盘和辅助吸盘，吸附时，利用非接触吸盘产生的吸力吸附硅片，并利用辅助吸盘支撑吸附的硅片，然后通过旋转轴的旋转带动硅片旋转。由于辅助吸盘的底端低于非接触吸盘的底端，因此，硅片不与非接触吸盘接触，而只与辅助吸盘接触，而由于辅助吸盘与非接触吸盘错开通气，从而在不吸附时，辅助吸盘通气，可防止辅助吸盘内凝结水，避免辅助吸盘与硅片直接接触时对硅片的污染，提高了硅片的质量。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。