[发明专利]用于气相沉积的氟基表面处理剂和使用该表面处理剂通过气相沉积进行修饰得到的制品

权利要求书

1.一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。

2.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(A)的重均分子量与组分(B)的重均分子量之间的比为1∶1.5-1∶5。

3.权利要求1或2的氟基表面处理剂，其中改性组分(A)的硅烷的含氟氧化烯基团聚合物的残基具有3-151个通式(1)表示的重复单元：

-C_gF_2gO-    (1)

其中g是1-6的整数，其对于每个重复单元是独立的，和组分(B)的含氟氧化烯基团的聚合物具有5-755个式(1)的重复单元。

4.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(A)的硅烷是由通式(2)表示的硅烷：

其中Rf是单价的氟氧烷基或者二价氟氧化烯基，Q是将Rf基团和X基团连接在一起的二价有机基团，X是具有与可水解基团结合的硅烷和多个可水解基团的单价有机基团，和a是1或2。

5.权利要求4的氟基表面处理剂，其中在式(2)中，当a是1时，Rf是选自下列通式(3)、(4)和(5)中的一种：

其中Y独立为F或者CF₃基团，m是3-150的整数，和d’是1-3的整数，

C₃F₇O(CF₂CF₂CF₂O)_mC_d′F_2d′-

                             (4)

其中m是3-150的整数和d’是1-3的整数，和

其中Y独立为F或者CF₃基团，z是H或F，p和q各自为0-150的整数，p+q是3-150，d是1-3的整数，和该重复单元可以随机连接在一起。

6.权利要求4的氟基表面处理剂，其中在式(2)中，当a是2时，Rf是选自以下通式(6)、(7)和(8)中的一种：

其中Y独立为F或者CF₃基团，d’独立为1-3的整数，e是2-6的整数，r和t各自为0-150的整数，s是0-6的整数，并且r+t+s是3-150，和该重复单元可以随机结合在一起，

-C_dF_2dO(CF₂CF₂CF₂O)_m′C_dF_2d-    (7)

其中m’是3-150的整数和d是1-3的整数，和

Y独立为F或者CF₃基团，d独立为1-3的整数，p’和q’各自为0-150的整数，p’+q’是3-150，和该重复单元可以随机连接在一起。

7.权利要求4的氟基表面处理剂，其中Q为未取代或者取代的具有2-12个碳原子的二价烃基，其可以包含至少一种选自酰胺键、醚键、酯键、乙烯键和二有机亚甲硅基团的结构。

8.权利要求7的氟基表面处理剂，其中Q是选自具有下式的二价基团的一种：

-CH₂OCH₂CH₂-

-CH₂OCH₂CH₂CH₂-

-CF₂OCH₂CH₂CH₂-

其中，b是2-4的整数和M是甲基。

9.权利要求4的氟基表面处理剂，其中X为可水解的甲硅烷基，或线性、支化或者环状硅氧烷基或者甲硅烷基，其具有可水解甲硅烷基或可水解甲硅烷基亚烷基。