[发明专利]等离子体处理室及用于该等离子体处理室的气体注入装置有效
| 申请号： | 201210593652.1 | 申请日： | 2012-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103915307A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 叶如彬;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 用于 气体 注入 装置 | ||
1.一种用于等离子体处理室的气体注入装置，所述装置包括环形气体注入管道，所述环形气体注入管道内壁设置若干气体注入口，其特征在于：所述气体输出的方向与所述气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈一锐角。
2.根据权利要求1所述的气体注入装置，其特征在于：所述的气体注入口数量≥3，在所述环形气体注入管道内壁上均匀分布。
3.根据权利要求1所述的气体注入装置，其特征在于：所述环形气体注入管道的内壁厚度大于等于1mm，所述气体注入口为穿透所述内壁的孔或窄槽，所述孔或窄槽的开口方向与所述气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈一锐角。
4.根据权利要求1所述的气体注入装置，其特征在于：所述气体注入口包括穿透所述内壁的孔或窄槽，每个孔或窄槽的出口处设置一挡板，所述挡板方向与气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈一锐角。
5.根据权利要求4所述的气体注入装置，其特征在于：穿透所述内壁的孔或窄槽在所述内壁上的切口方向垂直于所述内壁或者与所述内壁呈其他角度；所述挡板的形状可以为平板，也可以为带有一定弧度的弧形板。
6.根据权利要求1所述的气体注入装置，其特征在于：所述气体注入口包括穿透所述内壁的孔或窄槽和位于孔或窄槽出气方向末端的喷嘴，所述喷嘴方向与气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈一锐角。
7.根据权利要求6所述的气体注入装置，其特征在于：穿透所述内壁的孔或窄槽在所述内壁的切口方向和位于孔或窄槽出气方向末端的喷嘴方向相同或有一定的角度。
8.根据权利要求1所述的气体注入装置，其特征在于：所述若干气体注入口的气体输出方向与所述气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈同一锐角。
9.一种等离子处理装置，包括金属侧壁和绝缘顶板构成的真空封闭壳体，所述真空封闭壳体内设置基座和位于基座上方的待处理基片，以及施加到所述绝缘顶板上方圈状天线上的射频电源，其特征在于：所述金属侧壁和所述绝缘顶板间设置一气体注入装置，所述装置包括环形气体注入管道，所述环形气体注入管道内壁设置若干气体注入口，所述气体输出的方向与所述气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈一锐角。
10.根据权利要求9所述的等离子处理装置，其特征在于：所述的气体注入口在所述环形气体注入管道内壁上均匀分布。
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