[发明专利]加热装置及化学气相沉积设备无效
| 申请号: | 201210593186.7 | 申请日: | 2012-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN103074612A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
| 发明(设计)人: | 乔徽 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
| 地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 加热 装置 化学 沉积 设备 | ||
1.一种加热装置,包括托盘和位于所述托盘下方的加热器,所述托盘和加热器之间具有间隙,所述加热器包括多个加热区域,所述多个加热区域分别正对所述托盘的不同区域;其特征在于,还包括多个气体填充单元;所述多个气体填充单元分别向所述加热器的各个加热区域与托盘之间的间隙中提供的缓冲气体的热传导系数不同。
2.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述每个气体填充单元包括多个穿过所加热器的吹气管,所述多个吹气管均匀分布在所述加热器的对应加热器区域中。
3.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述加热器为电阻加热器。
4.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述多个加热区域分别独立对所述托盘进行加热。
5.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述缓冲气体至少包括第一缓冲气体和第二缓冲气体,所述第一缓冲气体的热传导系数小于第二缓冲气体的热传导系数,所述多个气体填充单元向所述间隙分别提供的缓冲气体中的第一缓冲气体和第二缓冲气体的体积比不相同。
6.如权利要求5所述的加热装置,其特征在于,所述多个加热区域分别为内区、围绕所述内区的中区和围绕所述中区的外区。
7.如权利要求6所述的加热装置,其特征在于,对应所述外区的间隙中第二缓冲气体与第一缓冲气体的体积比大于对应所述中区的间隙中第二缓冲气体与第一缓冲气体的体积比,对应所述中区的间隙中第二缓冲气体与第一缓冲气体的体积比大于对应所述内区的间隙中第二缓冲气体与第一缓冲气体的体积比。
8.如权利要求5至7所述的加热装置,其特征在于,所述第一缓冲气体为氮气,所述第二缓冲气体为氢气。
9.如权利要求5至7所述的加热装置,其特征在于,所述第一缓冲气体为氮气,所述第二缓冲气体为氦气或氩气。
10.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述间隙小于等于10mm。
11.一种化学气相沉积设备,其特征在于,包含如权利要求1~10中任意一项所述的加热装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





