[发明专利]使用激光蚀刻工艺的镀覆方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请根据35U.S.C.§119要求于2012年5月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2012-58296号的优先权，该申请的公开内容全部引入本文以供参考。

技术领域

本发明涉及用于材料表面处理的镀覆方法，更具体地，本发明涉及通过激光蚀刻某个镀镍层并在激光蚀刻的镀镍层上形成典型的镀覆层例如MP（多微孔）镀镍层和镀铬层，来实施图形而不降低外观、耐腐蚀性、耐磨性等的镀覆方法。

背景技术

通常，金属类部件的工业产品制造由进入原材料、注射成型、镀覆、涂覆/装配和装运组成。具体地，镀覆是在原材料上涂覆其它材料的薄层从而改善原材料表面状态的表面处理，其中薄金属层涂覆在材料表面上。此外，表面处理可改善原材料的耐腐蚀性、耐磨性等，并且可以获得例如光泽和纹理的效果。

为提供该效果，使用各种类型的镀覆方法，并且具体地，铬镀覆因其在空气中的高硬度、光泽和低变色而被广泛用作用于装饰性镀覆的完工镀覆（例如最终镀覆）。进一步地，因其高耐磨性，使用铬镀覆作为用于机械部件、模具、工具等的硬铬镀覆（例如工程铬镀覆）。

此外，使用如下方法，其中可以使用光泽或无光泽镀镍层来选择光泽或无光泽铬镀覆，并且图1是根据相关技术中如上描述的光泽或无光泽铬镀覆方法的镀覆结构的示例性视图。

通常通过化学镀覆方法或电镀方法来实施用于原材料例如丙烯腈-丁二烯-苯乙烯（ABS）树脂的常规光泽或无光泽铬镀覆方法。化学镀覆方法是如下镀覆方法，其中待镀覆的材料浸泡在化学镀覆溶液中，其中不同于电镀，电流是关断的。电镀方法是使用根据电解的沉积，经另一金属涂覆原材料表面的方法。

为执行光泽或无光泽铬镀覆方法，加工原材料A，随后通过用于确保原材料A和镀覆层的附着的化学镀覆方法进行蚀刻和活化。蚀刻是在酸溶液中浸泡脱脂和酸处理的材料一段短暂的时间，从而去除金属表面上不可见的氧化膜的工艺。活化是用于破坏表面上的钝态的处理，或在非金属材料化学镀覆的表面上吸附催化金属的处理；并且这些方法通常实施为镀覆的预处理。此外，为提供电镀的导电性，形成约0.2~0.4μm厚的化学镀镍层B。

化学镀覆方法之后，执行电镀方法以形成：用于吸收冲击的缓冲性能的约10~30μm厚的镀铜层C；用于抗腐蚀和高电压的约10~20μm厚的半光泽镀镍层D；用于“光泽”或“无光泽”效果、抗腐蚀和低电压的约8~12μm厚的光泽或无光泽镀镍层E；用于腐蚀电流分散的0.8~1.2μm厚的MP镀镍层F；以及用于外观、耐腐蚀性和耐磨性的约0.15~0.5μm厚的镀铬层G。

此外，当约8~12μm厚的镀镍层E有光泽时，其被分类为光泽铬镀覆方法，且当其无光泽时，其被分类为无光泽铬镀覆方法。

进一步地，当镀铜层C和MP镀镍层F包括在整个镀覆层内时，可进一步改善镀覆的物理特性。

然而，当在通过常规光泽或无光泽铬镀覆方法完成的材料表面上进行激光蚀刻而蚀刻图形时，镀铬层G或MP镀镍层F可被激光蚀刻工艺损伤，并因此可能降低外观、耐腐蚀性、耐磨性等。此外，当镀铬层G是有色镀铬层G例如白色镀铬层或深色镀铬层时，一部分或整个有色镀铬层可能被激光蚀刻工艺损伤，且因此不能获得期望的颜色效果或可靠性。

而且，近来，尽管用于消费者的产品选择的材料表面的光泽特性是相对重要的，但常规的光泽和无光泽镀覆方法限于获得产品差异，因为仅提供光泽或无光泽但不控制图形的光泽水平或无光泽水平。

以上提供的作为本发明相关技术的描述仅用于帮助理解本发明的背景，并不应解释为包括在本领域技术人员已知的相关技术中。

发明内容

本发明提供通过镀镍层上的激光蚀刻工艺并在由激光蚀刻工艺形成的激光蚀刻镀镍层上形成典型的镀覆层来蚀刻图形而不使镀镍层有缺陷的方法，其中通过镀镍层的蚀刻厚度来控制图形的亮度。

使用激光蚀刻工艺的本发明的镀覆方法包括：在原材料的表面上形成镀镍层；通过在镀镍层上激光蚀刻图形来形成激光蚀刻层；以及在激光蚀刻层上形成镀铬层。

此外，形成激光蚀刻层还可以包括在形成激光蚀刻层之后去除源自激光蚀刻工艺的污染物并通过超声洗涤和电解脱脂来洗涤表面。此外，在原材料的表面上形成镀铜层，然后在其上形成镀镍层。

此外，在形成镀铬层时，在激光蚀刻层上形成MP（多微孔）镀镍层并在其上形成镀铬层。