[发明专利]一种抛光垫清洗液及其使用方法有效
| 申请号： | 201210592020.3 | 申请日： | 2012-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103074175A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 陈高攀;潘国顺;顾忠华;龚桦;邹春莉 | 申请（专利权）人： | 深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/60;C11D3/075;C11D3/37;C11D3/20;C11D3/04;C11D3/10;C11D3/30;B08B7/04;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 518108 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 清洗 及其 使用方法 | ||
1.一种抛光垫清洗液，其特征在于，该清洗液包括聚氧乙烯醚非离子表面活性剂、清洗助剂、结块防止剂、增溶剂、润湿剂和PH调节剂，所述清洗液的pH值为8.0～10.0。
2.根据权利要求1所述的抛光垫清洗液，其特征在于，该清洗液的组分配比为：
聚氧乙烯醚非离子表面活性剂：1～10%；
清洗助剂：0.5～5wt%；
结块防止剂：0.1～5wt%；
增溶剂：10～20wt%；
润湿剂：0.01～0.1wt%；
PH调节剂：0.1～5wt%；
去离子水：余量。
3.根据权利要求1或2所述的抛光垫清洗液，其特征在于，所述的表面活性剂8wt%，清洗助剂5wt%，结块防止剂2wt%，增溶剂10wt%，润湿剂0.1wt%，PH调节剂3wt%，去离子水余量；清洗液的pH值为9.4。
4.根据权利要求1或2所述的抛光垫清洗液，其特征在于，所述的聚氧乙烯醚非离子表面活性剂为肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种；所述的清洗助剂为焦磷酸钠，三聚磷酸钠、四聚磷酸钠、六偏磷酸钠中的一种或几种；所述的结块防止剂为聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、聚丙烯酰胺、丙烯酸-烯丙醇共聚物、聚d-羟基丙烯酸、丙烯酸-马来酸共聚物中的一种或几种；所述的增溶剂为乙醇、丙酮、异丙醇中的一种或几种；所述的润湿剂为氟碳表面活性剂，包括阴离子、阳离子、非离子、两性氟碳表面活性剂中的一种或几种；所述的PH调节剂为氨水、碳酸铵、碳酸氢铵、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺中的一种或几种。
5.根据权利要求4所述的抛光垫清洗液，其特征在于，所述的肪醇聚氧乙烯醚通式为：
R-O-(CH2CH2O)n-H
其中，R为饱和的或不饱和的C7~18的烃基，是直链烃基，或是带支链的烃基；n的范围为5~20。
6.根据权利要求5所述的抛光垫清洗液，其特征在于，所述的肪醇聚氧乙烯醚为JFC、JFC-1、JFC-2、JFC-E、平加加-O、AEO-9中的一种或几种。
7.根据权利要求4所述的抛光垫清洗液，其特征在于，所述的烷基酚聚氧乙烯醚为壬基酚聚氧乙烯醚(NPEO）、辛基酚聚氧乙烯醚（OPEO）、十二烷基聚氧乙烯醚(DPEO）、二壬基酚聚氧乙烯醚(DNPEO）中的一种或几种。
8.根据权利要求4所述的抛光垫清洗液，其特征在于，所述的氟碳表面活性剂为阴离子氟碳表面活性剂，包括全氟辛基磺酸四乙基胺、全氟辛基磺酸胺、全氟丁基磺酸钾、N-丙基-全氟辛基磺酰氨谷氨酸钾中的一种或几种。
9.一种如权利要求1、2或3所述的抛光垫清洗液的使用方法，其特征在于，该清洗液的使用方法如下：
抛光垫每使用30min后用去离子水清洗抛光垫一次，抛光垫每使用1～2小时后用所述的清洗液清洗抛光垫一次；
将清洗液稀释20～40倍；
在0.02MPa的压强下使用1～3L/min清洗液刷洗1～2min；
然后在0.02MPa的压强下以5L/min的流量用去离子水刷洗1min。
10.根据权利要求9所述的抛光垫清洗液的使用方法，其特征在于，所述的抛光垫为聚氨酯及无纺布硅晶片抛光垫。
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