[发明专利]一种获得高品质薄膜样品X射线吸收谱的方法有效
申请号: | 201210591180.6 | 申请日: | 2012-12-28 |
公开(公告)号: | CN103076352A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 张静;陈栋梁;安鹏飞;宋冬燕;谢亚宁;胡天斗 | 申请(专利权)人: | 中国科学院高能物理研究所 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王朋飞;张庆敏 |
地址: | 100049 北京市石*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 获得 品质 薄膜 样品 射线 吸收 方法 | ||
1.一种获取高品质薄膜样品X射线吸收谱的方法,其特征在于:,在薄膜样品的测量过程中,采用干式胶片曝光薄膜样品衬底所致衍射斑点后,通过铅皮遮蔽衍射斑,阻止衬底所致的衍射信号进入探测器,从而得到高品质薄膜样品X射线吸收谱。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的方法包括如下步骤:
(1)准备X射线吸收谱学探测装置的采谱前工作;
(2)对样品进行采谱,快速收集实验数据,确认是否出现明显衍射峰,若有,执行步骤(3);
(3)在探头前放置与探头面积大小吻合的干式胶片,快速采集数据;
(4)数据采集结束后,取下干式胶片,用铅皮遮蔽衍射斑;
(5)将处理后的干式胶片重新置于探头前,重新快速扫描;
(6)观察吸收谱线是否仍出现衍射峰,若有,重复步骤(4)-(5)至吸收谱线上无衍射峰叠加时,再采集吸收谱。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的方法还进一步包括步骤(7):若正常采谱的吸收谱线中仍出现衍射峰,将采谱区间设置在衍射峰出现的能量范围内,重复步骤(4)-(6)。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤(2)中还包括对样品偏转角度的调整。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的薄膜样品为硅衬底或蓝宝石衬底或其他单晶衬底上薄膜样品;薄膜中的被探测元素的能量范围在5-20KeV。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的铅皮厚度为0.8-1.5mm。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述的铅皮厚度为1mm。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的干式胶片为免冲洗的X-射线感光胶片,所述干式胶片由碳,氮,氧及微量的锂元素构成,有效原子序数在6-8之间,胶片厚度为100-200微米。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(3)和步骤(5)中,干式胶片与探测装置中的滤光片集成使用。
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