[发明专利]单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液无效
| 申请号： | 201210590477.0 | 申请日： | 2012-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN103897605A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 高如山 | 申请（专利权）人： | 天津西美半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300380 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单面 抛光机 蓝宝石 衬底 抛光 | ||
1.一种单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：该抛光液专门针对单面抛光机使用，是一种含两种或多种不同粒径二氧化硅的抛光液，含有二氧化硅、碱性化合物、阴离子型表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。碱性化合物例如是氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、乙二胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵等有机碱类。阴离子表面活性剂是磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的至少一种。
2.按照权利要求1所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：专门针对单面抛光机使用，是一种含不同大小二氧化硅粒径的抛光液。
3.按照权利要求1所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。
4.如权利要求3所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述二氧化硅是胶体二氧化硅。
5.按照权利要求1所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：抛光液中的二氧化硅的含量是10％-45％，含有两种或多种不同粒径。
6.按照权利要求5所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：抛光液中所含两种或多种不同粒径二氧化硅，一般是指含有不同含量的60-100nm的大粒径和20-40nm的小粒径。
7.按照权利要求1所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：碱性化合物例如是氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、乙二胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵等有机碱类。
8.按照权利要求1所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：阴离子表面活性剂是磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的至少一种。
9.按照权利要求8所述的单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：抛光液中的阴离子型表面活性剂的含量是0.00008-1.6％。
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