[发明专利]一种新型颧骨种植体系统

权利要求书

1.一种新型颧骨种植体系统，其特征在于：包括种植体（1）、连接体（2）、基台（3）；种植体（1）外部有螺纹，上部中央有圆柱（8），圆柱（8）上部开有螺纹（12）；连接体（2）中央有孔，上部有切槽，切槽两边的耳块上开有螺孔；基台（3）下部有与连接体（2）切槽适配的凸块（5），凸块（5）上开有孔；连接体（2）通过圆柱（8）和螺母（7）与种植体（1）连接，通过螺钉（6）与基台（3）连接。

2.根据权利要求1所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）的高度为20—100mm，直径为3—8mm。

3.根据权利要求2所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）的直径为4mm—8mm，种植体（1）上部圆柱（8）周围有环形凹槽，连接体（2）下部有与环形凹槽相适配的圆柱形凸台（9）。

4.根据权利要求3所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）上部中央圆柱（8）的直径为1.5—5mm，高度为4—14mm；环形凹槽的直径为2—6mm，深度为4—12mm。

5.根据权利要求2所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）的直径为3—4.5mm，种植体（1）上部圆柱（8）周围有直径更大的圆柱形凸台（11），连接体（2）下部有与圆柱形凸台（11）相适配的圆柱形凹槽。

6.根据权利要求5所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）上部中央圆柱（8）的直径为1.5—2.5mm；种植体（1）上部的圆柱形凸台（11）直径为2-3mm，高度为2-4mm。

7.根据权利要求1所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述基台上部（4）为圆柱形、圆锥形、圆锥台、棱柱形或棱锥台形；基台下部凸块（5），底面为矩形或圆形，为矩形时，边长为2—6mm；为圆形时，直径为2—6mm；高度为4—6mm。

8.根据权利要求1所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）下部有切槽（10），切槽（10）深度为0.5—1.0mm，纵向长度为1.0—4.0mm，横向宽度为2.0—3.0mm。

9.根据权利要求1所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述基台下部凸块（5）上的孔为螺孔。

10.根据权利要求1至9任一项所述的新型颧骨种植体系统，其特征在于：所述种植体（1）中有沿轴向的空腔（15），空腔（15）中放置有药囊（13），种植体（1）壁上径向均匀分布有细孔（14）。