[发明专利]一种GST中性化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201210586914.1 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103897603A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 闫未霞;王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 gst 中性 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：
二氧化硅抛光颗粒 0.2-30wt%；
氧化剂 0.01-5wt%；
表面活性剂 0.01-4wt%；
余量为pH值调节剂和去离子水；
所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6-8。
2.如权利要求1所述的一种GST中性化学机械抛光液，其特征在于，以重量百分比计，包括如下组分：
二氧化硅抛光颗粒 2-6wt%；
氧化剂 1-4wt%；
表面活性剂 0.05-2wt%；
余量为pH值调节剂和去离子水；
所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6-8。
3.如权利要求2所述的一种GST中性化学机械抛光液，其特征在于，所述的pH值调节剂选自氢氧化钾、氨水、羟乙基乙二氨、四甲基氢氨。
4.如权利要求2所述的一种GST中性化学机械抛光液，其特征在于，所述的氧化剂选自铁氰化钾、双氧水和过硫酸铵。
5.如权利要求2所述的一种GST中性化学机械抛光液，其特征在于，选自聚氧乙烯硫酸钠(AES)、聚丙烯酸钠和聚氧乙烯醚磷酸酯。
6.如权利要求1-5任一权利要求所述的GST中性化学机械抛光液在相变材料抛光领域的应用。
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