[发明专利]电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器

说明书

技术领域

本发明涉及一种电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器，且特别涉及一种利用单层涂布即可形成保护膜的电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器。

背景技术

传统电光调制器包括基板、液晶层及介电保护层，液晶层形成于基板上，而介电保护层额外贴附于液晶层，藉以保护液晶。

然而，介电保护层导致电光调制器的驱动电压上升且在检测电性时，容易磨伤而降低元件寿命。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器，可改善电光调制器的驱动电压过高的问题。

根据本发明的另一实施例，提出一种电光调制器的制造方法，制造方法包括以下步骤。提供一基板，其中基板包括一透光基板及一导电膜，导电膜形成于透光基板上；形成一液晶聚合层于导电膜上，其中液晶聚合层包括混合的多个液晶分子及多个高分子材料；以及，利用高分子材料反应性的不同，分离液晶聚合层形成一聚合保护膜及一液晶层。

根据本发明的一实施例，提出一种电光调制器。电光调制器包括一基板及一液晶聚合层。基板包括一透光基板及一导电膜。导电膜形成于透光基板上。液晶聚合层形成于导电膜上且包括一聚合保护膜及一液晶层。液晶层包含一聚合膜及多个液晶分子，该些液晶分子分散于聚合膜中。其中，液晶层位于导电膜与聚合保护膜之间，且聚合保护膜的厚度小于液晶层的厚度。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1绘示依照本发明一实施例的电光调制器的剖视图；

图2A至图2G绘示依照本发明一实施例的电光调制器的制造过程图；

图3绘示图1的光调制器的测试示意图。

其中，附图标记

100：电光调制器

110：基板

111：透光基板

112：导电膜

120、120’：液晶聚合层

121：聚合保护膜

121'：光起始剂

1212：光趋官能基

122：液晶层

1221：聚合膜

1222：液晶分子

130：离型层

140：滚压机构

200：待测基板

210：待测导电层

V：驱动电压

T1、T11、T12、T1’、T2、T3：厚度

具体实施方式

下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作具体的描述：

请参照图1，其绘示依照本发明一实施例的电光调制器的剖视图。电光调制器100包括基板110及液晶聚合层120。

基板110包括透光基板111及导电膜112。透光基板111的材料包括玻璃或塑胶。导电膜112形成于透光基板111上。液晶聚合层120形成于导电膜112上且包括聚合保护膜121及液晶层122。

聚合保护膜121例如是胺酯丙烯酸酯(Urethaneacrylates)、甲基丙烯酸环型酯单体(如Isobornylmethacrylate,IBOMA)、聚酯丙烯酸酯(Polyesteracrylates)或环氧丙烯酸酯(Epoxy Acrylate,Aldrich)等。聚合保护膜121是由适合的光趋官能基1212在光起始剂121’（图2B）的作用下，利用光的控制聚合而成。聚合后的聚合保护膜121具有硬质耐刮特性，可保护液晶层122。

光趋官能基1212、光起始剂121’及液晶分子1222于照光前混合于同一层120’中，然于利用光的控制照光后形成聚合保护膜121及液晶层122，其中聚合保护膜121与液晶层122之间具有一明显界面。此外，聚合保护膜121的厚度T11小于液晶层122的厚度T12，一例中，厚度T11及T12关系满足下式(1)。