[发明专利]光耦合透镜模仁有效

专利信息
申请号: 201210582468.7 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN103895170B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 郭章纬 申请(专利权)人: 赛恩倍吉科技顾问(深圳)有限公司
主分类号: B29C45/26 分类号: B29C45/26;B29C33/76;B29L11/00
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司44334 代理人: 汪飞亚
地址: 518109 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 耦合 透镜
【说明书】:

技术领域

发明涉及成型技术,尤其涉及一种用于成型光耦合透镜的光耦合透镜模仁。

背景技术

光耦合透镜通常由射出成型模制而成,其包括光学面、垂直该光学面延伸的两个定位柱以及形成于该光学面上并位于该两个定位柱之间的多个会聚透镜。该多个会聚透镜一般被分为“进”“出”两组,例如,若该多个会聚透镜数量为两个,则是一进一出制,若该多个会聚透镜数量为四个,则是两进两出制,若会聚透镜的数量更多,分组则照此类推。

基板侧的透镜曲面设计需要考虑到光电二极管及激光二极管光束聚焦的特性,所以会透过光学设计软件去设计分析透镜聚焦的深度,希望达到最大光功率的输入与输出。一般来说,光耦合透镜在基板侧的微透镜通常都会设计等高深度,但有些光学设计为了特殊的需求,会针对光电二极管及激光二极管给予不同的微透镜深度设计。对于等高深度设计的微透镜,其模仁入子加工由于车削面高度一致,所以不会有刀具干涉的问题;但对于不等高深度的微透镜,由于微透镜彼此之间存在间距以及深度的落差,假设彼此间距过近并且深度落差太大,则模仁入子深度较低的那一面有可能会与刀具产生干涉。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种能制造不等高深度的微透镜且不会发生刀具干涉现象的光耦合透镜模仁。

一种光耦合透镜模仁,包括一第一模仁入子、一第二模仁入子以及一模仁本体,所述第一模仁入子包括一第一成型面以及一与所述第一成型面相背的第一后表面,所述第二模仁入子包括一第二成型面以及一与所述第二成型面相背的第二后表面,所述模仁本体包括一第一表面以及一与所述第一表面相背的第二表面,所述模仁本体内部开设有两个穿过所述第一表面以及第二表面的收容腔,所述第一模仁入子与第二模仁入子均收容于所述模仁本体的收容腔中,所述第一模仁入子相较于所述模仁本体的第一表面突出一段距离,所述第二模仁入子的第二成型面与所述模仁本体的第一表面齐平。

与现有技术相比较,本发明提供的光耦合透镜模仁将原本四通道的模仁入子拆解成两个不等高的二通道模仁入子,如此将可以弹性调整光耦合透镜在基板侧微透镜的深度,以满足针对光电二极管及激光二极管给予不同的微透镜聚焦设计的需求,减少加工的难度。

附图说明

图1是本发明提供的光耦合透镜模仁的立体组合示意图。

图2是图1所示的光耦合透镜模仁另一角度的立体组合示意图。

图3是图1所示的光耦合透镜模仁的立体分解示意图。

主要元件符号说明

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