[发明专利]一种扩散膜涂层的涂覆方法

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示技术中光学薄膜领域，特别涉及一种用于平板显示技术中在基板上涂覆扩散膜涂层的涂覆方法路线。

背景技术

  现代高科技的三大重点领域是材料、能源和信息科学。它们对物质材料不断提出新的性能要求。近几年来, 薄膜技术随着高科技的发展有了突飞猛进的进展。由于镀膜技术、薄膜材料、表面物理三者的相互推进和结合, 使得薄膜技术成为一门综合性的应用科学, 是今后工业发展的新重点。在一些发达国家, 薄膜技术被全方位推广应用。除了发展光学薄膜集成电路薄膜、液晶显示膜、磁盘、光盘薄膜外, 还大量生产刀具硬质膜、太阳能用薄膜、气敏元件薄膜、塑料金属化制品、建筑玻璃膜制品、各种装饰膜和卷镀薄膜产品等。薄膜之所以成为研究的热点, 并且具有广阔的应用前景, 是与薄膜材料的以下特点密切相关:

     许多情况下, 材料功能的发挥和作用发生在材料表面。如化学催化、光学反射、场致发射、热电子逸出等物理化学现象。使用功能薄膜材料比使用体块功能材料不仅保护资源, 而且降低成本。薄膜材料往往具有一些其块体材料所不具备的性能。这是因为薄膜材料容易形成细晶、非晶状态，薄膜材料容易处于亚稳态, 薄膜往往偏离化学计量比, 特殊的材料表面能态等。

    镀膜方法有湿法和干法。湿法包括电镀和化学镀。干法包括化学气相沉积法( CVD) 和物理气相沉积法( PVD) 。薄膜的制备常采用PVD法和CVD法。PVD法是在真空或超真空下将金属加热气化, 通过气态原子之间或与作保护气的惰性原子之间碰撞并被捕集于基材上来制备薄膜。CVD法是利用气相物质的热分解、热合成或化学传输等在基底材料上生成固态沉积的膜层。一般沉积温度高达1000e左右, 有些材料经受不住高温, 则可采用等离子体化学气相沉积技术。它是用气体放电等离子体来促进化学反应, 这样可以在较低的温度下操作( 500—600e) 。CVD法包括金属有机物的化学气相沉积( MOCVD) 和金属有机物等离子体化学气相沉积( MOPCVD) 等。近年来溶胶- 凝胶法镀膜受到人们的广泛关注，它具有生产成本相对较低、镀膜效率高、镀膜均匀性好等优点。其应用领域的研究非常活跃, 在新材料的研制、材料改性与拓宽用途方面也发挥着重要作用。

    薄膜涂覆是一种重要的现代表面工程技术。涂覆层的化学成分、组织结构可以和基体材料完全不同。涂覆薄膜厚度非常小而且尺寸精度要求非常高, 可以起到3方面的作用:优化表面性能、进行微细加工和产生新的功能材料。但是薄膜在涂覆过程中往往经常会出现褶皱，条纹，和气泡等缺陷。薄膜涂覆加工工艺过程对薄膜成膜的质量有着重要的影响，然而大多数研究人员主要是研究薄膜涂料的制备及成型方法，而薄膜的涂覆的加工工艺路线研究较少，因此对薄膜涂层的完整涂覆方法的研究显得尤其重要。

本发明方法就是针对目前在薄膜的涂覆过程中容易出现一些缺陷，在光学薄膜的涂覆工艺过程中还没有形成一个良好的完整涂覆工艺加工方法，提出了一种在基片上涂覆一种扩散膜涂层的涂覆方法。

发明内容

本发明方法的目的是提供一种光学扩散膜的涂覆加工方法，制造出一种良好的光学薄膜，避免薄膜成型过程中出现一些缺陷，成品率高、成膜效果好，从而提高薄膜材料的利用率及增强薄膜的功能效果。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案是首先对导光板采用超声波清洗的方法进行清洗，然后在其表面进行预涂一层抗刮材料组成的抗刮层，并对其进行干燥处理，再在该抗刮层表面涂覆一层光学扩散膜涂层，最后对其进行红外线干燥和干燥处理。整个涂覆过程为制备良好的光学薄膜提供了现实依据。具体方法如下：

1.超声波清洗：将待清洗的导光板经输入传送机传送到超声波清洗装置内，当基板从清洗槽中通过并在清洗液（纯水）中浸泡时，基板上下表面就可以同时被清洗。这是由于清洗槽的底部装有超声波振板，超声波频率控制在28KHz-40KHz范围内，利用该频率范围内的超声波在水中产生的空穴的空化作用对基板上的污垢进行清除，在空穴破裂的瞬间会放出巨大能量对空穴周围形成冲击，把基板表面的污垢薄膜击破而达到去污的效果。实践证明用这种方法清除大中尺寸附着粒子很有效。

2.预涂：在玻璃基板上涂覆一层抗刮材料组成的抗刮层，采用凹版印刷方式进行涂覆，该抗刮层的厚度控制在1um-2um之间，然后用烘干箱在55℃-70℃下进行烘干处理。该抗刮层有很较强的硬度和抗刮能力，在扩散膜和导光板相接触时，能有效的保护扩散膜不被刮伤。