[发明专利]抗蚀剂添加剂及包含该抗蚀剂添加剂的抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种抗蚀剂添加剂，由下式1表示：

其中，R′、R″和R″′各自独立地选自氢原子、C1-C4烷基、卤素基团和其中一个氢原子被卤素基团取代的C1-C4卤代烷基；

R₁和R₂各自独立地是氢原子或C1-C8烷基；

R₃是氢原子或由下式2表示的官能团：

其中，R₃₁是氢原子或是选自以下的羟基保护基：C1-C20烷基、(C1-C20烷氧基)烷基、C3-C30环烷基、甲酰基、(C1-C20烷基)羰基、(C3-C30环烷基)羰基、(C1-C20烷基)羧基和(C3-C30环烷基)羧基，R₃₂选自C1-C20亚烷基、C2-C20亚烯基、C1-C20杂亚烷基、C2-C20杂亚烯基、C3-C30环烷二基、C3-C30环烯二基、C2-C30杂环烷二基和C3-C30杂环烷二基，R₃₃是选自的酸不稳定基团，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地选自C1-C20烷基、C3-C30环烷基、(C1-C10烷基)环烷基、羟烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18环烷基)羧基和C3-C30杂环烷基，或R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团之间稠合在一起形成C3-C30饱和或不饱和烃环或C2-C20杂环基，p是0～3的整数，q是0～10的整数；

R₄选自疏水性基团和包含疏水性基团的C1-C20烷基、C3-C30环烷基、酰基、羧基、(C1-C20烷基)羧基、(C3-C30环烷基)羧基、C1-C20杂烷基和C2-C30杂环烷基；

R₅是选自的酸不稳定基团，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自独立地选自C1-C20烷基、C3-C30环烷基、(C1-C10烷基)环烷基、羟烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18环烷基)羧基和C3-C30杂环烷基，或R_a、R_b、R_c和R_d相邻基团之间稠合在一起形成C3-C30饱和或不饱和烃环或C2-C20杂环基，p是0～3的整数，q是0～10的整数，或R₅选自包含酸不稳定基团的C1-C20烷基、C3-C30环烷基、酰基、羧基、(C1-C20烷基)羧基、(C3-C30环烷基)羧基、(C1-C20烷基)羧烷基、C1-C20杂烷基和C2-C30杂环烷基；

l、m、n和o分别是主链中的重复单元的数目，其中l+m+n+o=1,0<l/(l+m+n+o)<0.9，0<m/(l+m+n+o)≤0.2，0<n/(l+m+n+o)<0.9，0≤o/(l+m+n+o)<0.9。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中，所述疏水性基团选自卤原子和C1-C20卤代烷基。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中，在式2中，R₃₁选自C1-C10烷基、(C1-C10烷氧基)烷基、C3-C14单环环烷基、C8-C18二环环烷基、C10-C30三环环烷基、C10-C30四环环烷基、甲酰基、(C1-C10烷基)羰基、(C3-C18环烷基)羰基、(C1-C10烷基)羧基和(C3-C18环烷基)羧基。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂添加剂，其中，在式2中，R₃₁选自甲酰基、乙酰基、甲氧基甲基、叔丁基羰基、叔丁氧基羰基、环己基羰基、环戊基羰基、环辛基羰基、金刚烷基羰基和双环[2,2,1]庚基甲基羰基。