[发明专利]一种纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层，其特征在于，由VC层和Ni层交替沉积而成，相邻的一层VC层和一层Ni层构成一个双层周期层，每个双层周期层的厚度为1～88nm，每个双层周期层中VC层与Ni层的厚度比为1.0～3.0：1，纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层的总厚度为1～5μm。

2.根据权利要求1所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层，其特征在于，每个双层周期层的厚度为3～60nm。

3.根据权利要求1或2所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层，其特征在于，每个双层周期层的厚度均相等。

4.根据权利要求1所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层，其特征在于，每个双层周期层的厚度为6～25nm，每个双层周期层中VC层与Ni层的厚度比为2.0～3.0：1，且每个双层周期层的厚度均相等。

5.根据权利要求1～4任一项所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层的制备方法，其特征在于，包括：将VC靶和Ni靶分别安装在中频阴极上，靶面垂直于旋转工作台，基体安装在旋转工作台上，通过调节旋转工作台的转速和靶的溅射功率，采用磁控溅射方法，对基体进行沉积，得到纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层。

6.根据权利要求5所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层的制备方法，其特征在于，沉积前，真空室的本底压强小于等于5×10^-5Pa。

7.根据权利要求5所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层的制备方法，其特征在于，沉积时，沉积温度为200℃～400℃，沉积压力为0.3Pa～1.0Pa。

8.根据权利要求5所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层的制备方法，其特征在于，沉积时，VC靶溅射功率密度为4.0～6.5W/cm²，Ni靶溅射功率密度为0.5～0.9W/cm²。

9.根据权利要求5所述的纳米多层结构的VC/Ni增韧涂层的制备方法，其特征在于，沉积时，所述的旋转工作台的转速为0.5～4转/分钟。