[发明专利]一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法有效

专利信息
申请号: 201210574411.2 申请日: 2012-12-26
公开(公告)号: CN103901066A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 戴平;马振珠;刘玉兵;王彦君;赵鹰立;闫冉;韩蔚 申请(专利权)人: 中国建材检验认证集团股份有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 获得 标准 稀释 射线 荧光 强度 方法
【权利要求书】:

1.一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于包括:

步骤1,将被测试样品制备为玻璃熔片,该玻璃熔片的稀释比为R;

步骤2,对上述制备的玻璃熔片进行X荧光强度测定,得到样品中某元素的X荧光强度值I;

步骤3,根据公式:,计算得到标准稀释比R0下的X荧光强度I0,其中αi,f为熔剂影响系数。

2.根据权利要求1所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于:所述的熔剂影响系数αi,f是通过以下步骤得到的,

步骤S1,用熔剂和被测试样品制备多个玻璃熔片,各玻璃熔片具有不同的稀释比R;

步骤S2,对上述各玻璃熔片进行X射线荧光强度测定,得到各个玻璃熔片中某元素i的X射线荧光强度I;

步骤S3,设上述被测试样品中元素i的浓度为Ci,用元素i的浓度Ci对I和RI过原点做二元回归分析,得到两个斜率记为斜率K1和斜率K2,则熔剂影响系数αi,f=K2/K1。

3.根据权利要求1或2所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于:步骤1中所述的稀释比R在3-10范围内。

4.根据权利要求1所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于,所述的被测试样品为水泥。

5.一种水泥样品的测量方法,其特征在于,其包括上述权利要求1-4任一项所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法。

6.权利要求1-4任一项所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法在测量水泥样品中的应用。

7.一种X射线荧光分析中熔剂影响系数的测定方法,其特征在于包括以下步骤:

步骤S1,用熔剂和被测试样品制备多个玻璃熔片,各玻璃熔片具有不同的稀释比R;

步骤S2,对上述各玻璃熔片进行X射线荧光强度测定,得到各个玻璃熔片中某元素i的X射线荧光强度I;

步骤S3,设上述被测试样品中元素i的浓度为Ci,用元素i的浓度Ci对I和RI过原点做二元回归分析,得到两个斜率记为斜率K1和斜率K2,则熔剂影响系数通过公式αi,f=K2/K1计算得到。

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