[发明专利]一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法有效
| 申请号: | 201210574411.2 | 申请日: | 2012-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN103901066A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
| 发明(设计)人: | 戴平;马振珠;刘玉兵;王彦君;赵鹰立;闫冉;韩蔚 | 申请(专利权)人: | 中国建材检验认证集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 获得 标准 稀释 射线 荧光 强度 方法 | ||
1.一种获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于包括:
步骤1,将被测试样品制备为玻璃熔片,该玻璃熔片的稀释比为R;
步骤2,对上述制备的玻璃熔片进行X荧光强度测定,得到样品中某元素的X荧光强度值I;
步骤3,根据公式:,计算得到标准稀释比R0下的X荧光强度I0,其中αi,f为熔剂影响系数。
2.根据权利要求1所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于:所述的熔剂影响系数αi,f是通过以下步骤得到的,
步骤S1,用熔剂和被测试样品制备多个玻璃熔片,各玻璃熔片具有不同的稀释比R;
步骤S2,对上述各玻璃熔片进行X射线荧光强度测定,得到各个玻璃熔片中某元素i的X射线荧光强度I;
步骤S3,设上述被测试样品中元素i的浓度为Ci,用元素i的浓度Ci对I和RI过原点做二元回归分析,得到两个斜率记为斜率K1和斜率K2,则熔剂影响系数αi,f=K2/K1。
3.根据权利要求1或2所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于:步骤1中所述的稀释比R在3-10范围内。
4.根据权利要求1所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法,其特征在于,所述的被测试样品为水泥。
5.一种水泥样品的测量方法,其特征在于,其包括上述权利要求1-4任一项所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法。
6.权利要求1-4任一项所述的获得标准稀释比下X射线荧光强度的方法在测量水泥样品中的应用。
7.一种X射线荧光分析中熔剂影响系数的测定方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤S1,用熔剂和被测试样品制备多个玻璃熔片,各玻璃熔片具有不同的稀释比R;
步骤S2,对上述各玻璃熔片进行X射线荧光强度测定,得到各个玻璃熔片中某元素i的X射线荧光强度I;
步骤S3,设上述被测试样品中元素i的浓度为Ci,用元素i的浓度Ci对I和RI过原点做二元回归分析,得到两个斜率记为斜率K1和斜率K2,则熔剂影响系数通过公式αi,f=K2/K1计算得到。
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