[发明专利]X射线处理装置及X射线处理方法

权利要求书

1.一种X射线处理装置，其特征在于包括：

工作台（11），其载置被处理体（101）；

X射线处理机构（12R、12L），其对配置在所述工作台（11）上的规定处理区域（11a）内的所述被处理体（101）照射X射线并进行处理；

按压机构（157），其配置在所述被处理体（101）向所述处理区域（11a）搬送的搬送路径（11b）上，且按压残留在所述被处理体（101）的边部上的耳部（102）而将其压扁；及

遮蔽机构（158a～158c），其配置在比所述按压机构（157）更靠所述处理区域（11a）侧，且遮蔽来自所述X射线处理机构（12R、12L）的X射线。

2.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述按压机构（157）由树脂构成，且与所述耳部（102）的接触部分形成为曲面形状；

该X射线处理装置还包括可摇动地支撑所述按压机构（157）的摇动支撑部（154）。

3.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述遮蔽机构包含由X射线遮蔽性材料构成的片材（158a～158c）。

4.根据权利要求3所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述片材包含隔开间隔而积层的多片片材部件（158a～158c）。

5.根据权利要求3所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述片材（158a～158c）的至少下端部被切断成短条状。

6.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

还包含支撑机构（160、161），该支撑机构（160、161）一体地且可沿所述搬送路径（11b）的左右方向移动地支撑所述按压机构（157）与所述遮蔽机构（158a～158c）。

7.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

还包含移动支撑机构（151），该移动支撑机构（151）一体地且可沿所述搬送路径（11b）的上下方向移动地支撑所述按压机构（157）与所述遮蔽机构（158a～158c）。

8.根据权利要求7所述的X射线处理装置，其特征在于：

包含控制机构（17），其在将所述被处理体（101）配置在规定位置上时，使所述按压机构（157）与所述遮蔽机构（158a～158c）作为一体下降而接近所述被处理体（101），其后，使所述X射线处理机构（12R、12L）照射X射线。

9.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

还包含X射线遮蔽用外罩（21），其包含所述被处理体（101）的搬入口（22），且覆盖所述X射线处理机构（12R、12L）、所述按压机构（157）及所述遮蔽机构（158a～158c）；裙状的遮蔽部件（23），其配置在所述搬入口（22）。

10.一种X射线处理方法，其特征在于包括如下步骤：

通过搬入口（22）将被处理体（101）搬送到照射有X射线的处理区域（11a）；

将残留在所述被处理体（101）的边部的耳部（102）压扁；及

在从所述搬入口（22）离开的位置且搬送中的所述被处理体（101）的耳部（102）通过的位置上，遮蔽X射线。