[发明专利]有机发光二极管装置以及制造该装置的方法有效
| 申请号: | 201210567796.X | 申请日: | 2012-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN103681740A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
| 发明(设计)人: | 权当;孙正浩;李定玹 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机 发光二极管 装置 以及 制造 方法 | ||
技术领域
本说明书涉及有机发光二极管(OLED)装置,具体而言,涉及能够防止外部潮湿/氧气等渗入的OLED装置,以及制造该装置的方法。
背景技术
虽然阴极射线管(CRT)显示装置已广泛用作为显示装置,但平板显示(FPD)装置,例如等离子显示平板(PDP)装置,液晶显示(LCD)装置,可被称作为有机电致发光显示(OELD)装置的有机发光二级管(OLED)装置,等等,已成为近年来研究和开发的对象,作为CRT的替代品。
这当中,OLED装置作为自发光装置,由于省略了在作为不发光装置的LCD装置中所使用的背光单元,从而具有重量轻和外形薄的优点。
OLED装置具有优于LCD装置的视角和对比度,并在功耗方面具有优势,从而以直流(DC)低电压来驱动。另外,OLED装置具有快捷的响应速度,依靠固体内部显示装置(solid internal display)而具有出色的抗外部冲击耐久力,并具有宽泛的工作温度范围。
特别的,OLED装置的制造过程简单,由此,制造OLED装置比制造传统的LCD装置更为便宜。
表现出这些特征的OLED装置可分为无源矩阵类型和有源矩阵类型。在无源矩阵类型OLED装置中,信号线按矩阵方式彼此交叉。在有源矩阵类型OLED装置中,作为开关器件的薄膜晶体管(TFT)布置于各个像素,用以接通或关闭相应像素。
由于在分辨率、功耗、寿命等方面无源矩阵类型OLED装置存在不足,因此具有高分辨率和大屏幕优点的有源矩阵类型OLED已成为近年来研究和开发的对象。
针对上述特征,下文中将参考图1和2描述根据现有技术的OLED的结构。
图1是示意性示出根据现有技术的OLED的截面图。
图2是图1中“A”部分的放大截面图,其示出了现有技术OLED中作为面板边缘部分的非显示区域NA。
根据现有技术的OLED装置10,如图1和2中所示,包括具有开关TFT(未示出)、驱动TFT(未示出)以及有机发光二极管(OLED)(未示出)的第一基板11,和面对且封装所述第一基板11的第二基板41。第一基板11和第二基板41彼此间隔开,并利用位于第一基板11和第二基板41边缘部分处的密封图案47彼此贴合。
这里,在第一基板11的显示区域AA上形成有在每个像素区域(未示出)边界上彼此交叉的栅极线(未示出)和数据线(未示出),并且可以形成与栅极线或数据线串联的电源线(未示出)。
每个像素区域均设有开关TFT和驱动TFT。
在第一基板11的显示区域AA内的每个像素区域上形成有半导体层13,所述半导体层13与驱动区域(未示出)和开关区域(未示出)相对应。半导体层13由硅制成。半导体层13包括有源区域13a以及源极区域13b和漏极区域13c,所述有源区域13a设置在其中央位置以用于形成沟道区域,所述源极区域13b和漏极区域13c形成在有源区域13a的两侧并且上面掺杂有高水平的杂质。
在包括有半导体层13的第一基板11上形成有栅极绝缘层15。
在显示区域AA内的每个像素区域上,形成有面对所述半导体层13的有源区域13a的栅极电极17和连接到栅极电极17的栅极线(未示出)。
并且,在具有栅极电极17和栅极线的栅极绝缘层15上形成有第一夹层绝缘层19。这里,夹层绝缘层19以及其下面的栅极绝缘层15各自包括第一和第二半导体接触孔(未示出),从而使位于有源区域13a两侧的源极区域13b和漏极区域13c暴露。
在每个像素内具有第一和第二半导体接触孔的第一夹层绝缘层19上,形成有源极电极21和漏极电极23。源极电极21和漏极电极23彼此分隔设置,并与源极区域13b和漏极区域13c接触,所述源极区域13b和漏极区域13c通过第一和第二半导体接触孔而暴露。
此外,在每个像素区域P内,在第一夹层绝缘层19上形成有第二夹层绝缘层25,所述第一夹层绝缘层25在源极电极21与漏极电极23之间暴露。第二夹层绝缘层25包括漏极接触孔(未示出),用于使漏极电极23通过该接触孔暴露。
这里,源极电极21和漏极电极23、具有与所述电极21和23相接触的源极区域13b和漏极区域13c的半导体层13、以及均形成在半导体层13上的栅极绝缘层15和栅极电极17,构成驱动TFT(未示出)。
虽然并未示出,但开关TFT(未示出)具有与驱动TFT相同的结构,并与驱动TFT连接。
第一电极27,有机发光层31和第二电极33按顺序地形成在第二夹层绝缘层25处实际显示图像的区域上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





