[发明专利]MEMS压力传感器阵列、其制作方法及压力测量方法有效

专利信息
申请号: 201210564055.6 申请日: 2012-12-21
公开(公告)号: CN103063350A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 黎坡 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: G01L9/12 分类号: G01L9/12;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: mems 压力传感器 阵列 制作方法 压力 测量方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及MEM S(Micro-Electro-Mechanical-System,微机电系统)领域,特别是涉及一种MEMS压力传感器阵列及其制作方法,此外,本发明还涉及一种压力测量方法。

背景技术

从二十世纪八十年代末开始,随着微机电系统(Micro-Electro-Mechanical-System,MEMS)技术的发展,各种传感器实现了微小型化。

目前各种微小型化的传感器中应用较多的一种为MEMS压力传感器,MEMS压力传感器可以利用MEMS中的敏感薄膜接收外部压力信息,将转换出来的信号经处理电路放大,从而测量出具体的压力信息。MEMS压力传感器广泛应用于汽车电子比如TPMS(轮胎压力监测系统),消费电子比如胎压计、血压计,工业电子比如数字压力表、数字流量表、工业配料称重等领域。

根据压力传感器工作原理的不同,压力传感器可分为电容式、压电式、压阻式三种。其中,电容式压力传感器的测压部件为敏感薄膜,该敏感薄膜用以覆盖压力传感器自身的空腔的开口,换言之,该敏感薄膜的一个表面承受空腔压强,另一个表面承受外界压强,相应地,其实现测压的原理为:敏感薄膜与一个与之平行的电极组成平板电容,当外界压力发生变化时,敏感薄膜由于外界压强与自身空腔内的压强存在差异而发生变形,从而使得平板电容的电容大小发生变化,通过测量平板电容的电容变化即可计算出外界压力的大小。

更多关于MEMS压力传感器的信息请参见公开号为CN102742012A的中国专利申请文件。

研究表明,该敏感薄膜在平衡位置(外界压强与自身空腔内的压强相等)附近具有较好的线性度,对外界压力测量较准,随着敏感薄膜的形变量增大,测量误差越来越大。

然而,现有的MEMS压力传感器的空腔内一般为某一特定大小的压强,当被测量的气压变化较大时会造成压力传感器的测量误差较大,同时也造成可测量范围也较小。

针对上述问题,本发明提出一种MEMS压力传感器阵列、其制作方法及压力测量方法加以解决。

发明内容

本发明要解决的问题是现有的MEMS压力传感器的测量误差较大。

为解决上述问题,本发明提供了一种MEMS压力传感器阵列,包括:

位于同一芯片的n个MEMS压力传感器,n≥2,每个所述MEMS压力传感器具有第一电极、适于用作第二电极的图形化的敏感薄膜及两者之间形成的空腔,各MEMS压力传感器的空腔内的压强分别为P1、P2…Pn,其中,P1、P2....Pn互不相等。

可选地,MEMS压力传感器阵列还包括:所述芯片上具有同一大小的空腔内压强P1、P2…Pn的MEMS压力传感器具有至少两个。

可选地,所述芯片上空腔内压强逐渐变大的各MEMS压力传感器中,空腔内压强逐渐变大的各MEMS压力传感器中,每两大小相邻压强之间的差值相等,或空腔内压强P1、P2…Pn在某一压强附近密集排布,越远离该压强,排布越稀疏。

可选地,所述芯片上各MEMS压力传感器的空腔内的压强P1、P2…Pn的范围为0MPa到2MPa。

可选地,所述芯片上空腔内压强逐渐变大的各MEMS压力传感器中,每两大小相邻压强之间的差值为0.2MPa或0.5MPa,或空腔内压强P1、P2…Pn在1MPa附近密集排布,越远离1MPa压强,排布越稀疏。

可选地,其特征在于,还包括选择输出模块,所述选择输出模块用于输出所述芯片上空腔内压强分别为P1、P2…Pn的各MEMS压力传感器中,其空腔内压强与MEMS压力传感器阵列所在环境压强P’最接近的该个MEMS压力传感器的测量值。

可选地,其特征在于,还包括选择工作模块,所述选择工作模块用于选择所述芯片上空腔内压强分别为P1、P2…Pn的各MEMS压力传感器中,其空腔内压强与MEMS压力传感器阵列所在环境压强P’最接近的该个MEMS压力传感器进行测量。

可选地,每个MEMS压力传感器中:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210564055.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top