[发明专利]具有纳米结构的超润滑非晶碳薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种具有纳米结构的超润滑非晶碳薄膜的制备方法，其特征在于采用射频磁控溅射物理气相沉积技术制备，具体操作步骤为：

1）用无水乙醇和丙酮分别超声清洗的单晶硅片，吹干后置于固体润滑薄膜沉积系统的沉积室中，然后进行抽真空；

2）当真空度高于5.0×10^-4 Pa时，通氩气于沉积室中，在占空比为70.0%、脉冲直流负偏压700-1000 V的条件下用氩(Ar)等离子体进行溅射清洗基材25-35min；

3）过渡层由纯Ar等离子体溅射孪生钛靶或Si/Al混合靶材，面积比A_铝/A_硅=1/8制得，制备条件为中频频率40 KHz电流2.0 A，氩气流量为40.0 sccm，工作压强为4.0-5.0 Pa，基底偏压为-200 V，靶材与基材距离为9-10 cm，沉积时间为8-12 min ；

4）将甲烷气和氩气以1:7比例混合后通入反应室中，在工作压强为0.5-1.2 Pa的条件下开启射频电源，频率 27.12 MHz, 功率为400-700 W，在自偏压的作用下，产生的含有C和Ar的等离子体共同溅射Si/Al混合靶材，面积比为A_铝/A_硅=1/8；

5）薄膜沉积过程中，基材无额外加热，且负偏压为0-50V。