[发明专利]抗蚀剂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种抗蚀剂组合物。 

背景技术

如液晶显示装置电路或半导体集成电路那样，精细的电路图案是在基板上形成的绝缘膜或导电性金属膜上涂布抗蚀剂组合物，进行固化、曝光、显影而形成目标形状的图案。使用形成了图案的抗蚀剂膜作为掩模对金属膜或绝缘膜进行蚀刻，然后除去残留的抗蚀剂膜，从而在基板上形成精细电路。这种液晶显示装置电路用抗蚀剂组合物根据曝光部分的溶解度变化来分类为负型和正型。 

抗蚀剂组合物的重要特性包括：所形成的抗蚀剂膜的感光速度、耐热性、显影对比度、分辨率、与基板的粘合力、残膜率、电路线宽均匀性(CD Uniformity)及人身安全性等使用方便性。 

对于各种工业上的用途，特别是在液晶显示装置或半导体电路的制造中，抗蚀剂膜需要能形成具有非常细的线和空间宽度(1μm以下)的图案程度的分辨率。 

大部分的抗蚀剂组合物含有用于形成抗蚀剂膜的高分子树脂、光敏性化合物和溶剂。现有技术中进行了很多尝试以改善液晶显示装置电路用抗蚀剂组合物的感光速度、显影对比度、分辨率及人身安全性。 

发明内容

本发明目的在于，考虑上述以往技术的问题，提供具有现有的抗蚀剂组合物。

一种抗蚀剂组合物，其特征在于：由以下重量份的组分组成，碱溶性丙烯酰基共聚物10-20份、萘醌二叠氮基酯化物5-10份、三聚氰胺衍生物2-5份、聚乙烯基苯酚型聚合物2-5份、碱溶性酚醛清漆树脂35-40份、烷基烷氧基硅烷2-8份、烷基锗烷3-7份、二氧化硅2-6份、氧化铝1-5份、二氧化钛2-5份、氧化锆4-7份、氧化锡2-4份、氧化锌3-7份、无水乙醇10-15份。

采用常规方法将上述原料在搅拌器中搅拌均匀，搅拌速度2000-3000转/分钟，搅拌30-60分钟，搅拌温度100-150°C。

本发明的抗蚀剂组合物感光速度、残膜率和耐热性优异。 

具体实施方式

实施例1

一种抗蚀剂组合物，其特征在于：由以下重量份的组分组成，碱溶性丙烯酰基共聚物10份、萘醌二叠氮基酯化物5份、三聚氰胺衍生物2份、聚乙烯基苯酚型聚合物2份、碱溶性酚醛清漆树脂35份、烷基烷氧基硅烷2份、烷基锗烷3份、二氧化硅2份、氧化铝1份、二氧化钛2份、氧化锆4份、氧化锡2份、氧化锌3份、无水乙醇10份。

实施例2

一种抗蚀剂组合物，其特征在于：由以下重量份的组分组成，碱溶性丙烯酰基共聚物20份、萘醌二叠氮基酯化物10份、三聚氰胺衍生物5份、聚乙烯基苯酚型聚合物5份、碱溶性酚醛清漆树脂40份、烷基烷氧基硅烷8份、烷基锗烷7份、二氧化硅6份、氧化铝5份、二氧化钛5份、氧化锆7份、氧化锡4份、氧化锌7份、无水乙醇15份。

实施例3

一种抗蚀剂组合物，其特征在于：由以下重量份的组分组成，碱溶性丙烯酰基共聚物15份、萘醌二叠氮基酯化物7份、三聚氰胺衍生物3份、聚乙烯基苯酚型聚合物4份、碱溶性酚醛清漆树脂37份、烷基烷氧基硅烷6份、烷基锗烷5份、二氧化硅5份、氧化铝3份、二氧化钛3份、氧化锆5份、氧化锡3份、氧化锌4份、无水乙醇13份。