[发明专利]非碱性显影紫激光光聚合型平版印刷版及其显影方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种在铝版基上形成的紫激光光聚合型感光涂层的平版印刷版，具体的说是涉及一种可以用紫激光直接制版的光聚合型平版印刷版，并使用非碱性显影液进行显影加工。

背景技术

感光性高分子材料作为功能性高分子的一个重要分支现已逐渐被广泛应用到许多领域，如电子工业、印刷工业、油墨工业、涂料工业以及用作记录材料、胶粘剂和医疗材料等。同其他的记录材料如卤化银明胶、重铬酸盐等相比，感光性高分子材料具有分辨率高、成像稳定、成本低、加工方便等特点。感光性高分子材料最主要的应用领域之一是印刷工业，已被广泛应用于平版、凸版、凹版、丝网版制版，此外还应用于明室拷贝、彩色预打样、印刷油墨、上光剂等。近年来随着计算机和半导体激光技术的发展，感光性高分子材料作为激光成像材料被广泛地研究和应用。

所谓的光聚合是指在光的作用下，使单体发生聚合的方法。光引发聚合分直接光引发聚合和光敏聚合两种。前者，在光的作用下，光引发剂在激发态生成活性种子（自由基或阳离子），引发单体聚合；后者光敏剂首先吸收光然后与光引发剂作用产生活性种子引发单体聚合，因而可根据光敏剂的吸收光谱，实现所需的感光范围例如红外光830nm、绿光532nm、蓝光488nm以及兰紫光405nm。

对于可激光成像的光聚合型平版印刷版，经激光曝光的区域发生聚合反应而固化，在显影液中由溶解变为不溶，形成图文区；未曝光区域经显影加工后被除去，形成印版空白区。例如US7041431公布了一种光聚合型平版印刷版，其感光范围为390－430nm，可使用兰紫激光直接扫描曝光，曝光后经预热、水洗、显影后形成平版印刷版；US7063936公布了一种光聚合型组合物，其中包括含有至少两个乙烯基官能团的齐聚物，引发剂以及碱溶性成膜树脂，选择光敏剂的吸收光谱，分别可采用810nm和405nm光源曝光，并经过显影形成图文。再如US7056644公布了一种光聚合型平版印刷版，在经过盐酸或硝酸处理过的版基上涂有光聚合型感光层和保护层，感光层中包括含有乙烯基双键的化合物、含有铁茂化合物的引发体系以及成膜树脂；该平版印刷版可用于激光直接成像，曝光区域固化，未曝光区域使用碱性显影液显影。

目前光聚合型平版印刷版通常使用碱性显影液显影（PH值11－14之间，如US6756183Z公布了光聚合型平版印刷版的制备方法），以增大固化区域与未固化区域的溶解反差，获得理想的图像还原。然而使用碱性显影液有两个主要缺点：1）碱性显影液的腐蚀性强不利于操作；2）碱性物质与CO₂以及涂层中酸性化合物中和反应导致显影液的碱性衰减，对印版的成像稳定性产生直接影响，因此要通过复杂的补加方式维持显影液碱性稳定（如US7024996中公布了一种保持显影液碱性稳定的方法和设备）。

US2005/0266349公布了一种光聚合型平版印刷版及其显影方法，采用中性显影胶作为显影工作液（PH=6.5-8），并省去了预水洗和后水洗以及上胶加工步骤。US2011/0020757公布了一种采用弱碱性显影液显影的光聚合型平板印刷版材。虽然两者使用的显影方式较传统方式环保低污染，但版材的耐印率不佳。

本发明提供了一种紫激光光聚合型平版印刷版以及显影加工方法，采用非碱性显影液显影，后处理保留了预水洗、后水洗以及上胶步骤，使其拥有良好的耐印率。

发明内容

本发明的目的就在于解决现有技术中存在的上述技术问题，提供一种非碱性显影液显影的紫激光光聚合型平版印刷版及其显影方法，后处理保留了预水洗、后水洗以及上胶步骤，使其拥有良好的耐印率。

本发明的目的可通过以下措施来实现：

本发明的非碱性显影的紫激光光聚合型平版印刷版，其平板印刷版的前体，包括有支持体，在支持体之上为光聚合型感光层，在光聚合型感光层之上附有水性保护层，其感光层组分包括含有乙烯性不饱和基团的化合物、单组分或双组分或多组分引发体系、着色剂；所述的含有乙烯性不饱和基团的化合物包括单体和聚合物，单体和聚合物的重量比介于1.5—2.0之间。

所述的紫激光光聚合型平版印刷版还包含一个水溶性的底涂层，介于版基和光敏层之间，覆盖在版基的微观表面并且有足够薄的厚度，可以阻止感光层和版基之间的机械连锁反应。

所述的光聚合型感光层所包含的单组份或双组份或多组分引发体系，具体包括增感染料、引发剂以及助引发剂或链转移剂；其在光聚合型感光层中的重量百分比浓度为5-30%，优选用量为5-20%。

所述的光聚合型感光层所包含的着色剂，是染料或颜料，其在光聚合型感光层中的重量百分比浓度为0.5-20%。