[发明专利]防反射膜和光学元件

权利要求书

1.一种防反射膜，为具备在基材上依次层压的中间层和低折射率层，利用光学干涉作用来防止入射光反射的防反射膜，其特征在于，

该低折射率层为使用包含层构成材料的涂层液利用湿式成膜法在该中间层表面成膜的、中空二氧化硅粒子由粘合剂粘结而成的层，

该中间层是以与该粘合剂密合性良好的有机金属化合物为主要成分，相对于该涂层液具有润湿性的层。

2.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中间层为以有机硅化合物为主要成分的有机硅化合物层。

3.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中间层为以有机钛化合物或有机锆化合物为主要成分的层。

4.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中间层为自组装单分子膜构成的层。

5.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中间层为利用真空成膜法或湿式成膜法形成的层。

6.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述低折射率层的折射率为n1、所述基材的折射率为n（sub）时，所述中间层的折射率（n2）满足下述式（1）的关系：

n(1)×n(sub)×0.930≤n(2)≤n(1)×n(sub)×0.985···(1)]]>

其中，上述式（1）中，1.15≦n（1）≦1.24。

7.如权利要求1所述的防反射膜，其中，在所述基材和所述中间层之间具备由作为光学干涉层的无机材料构成的无机基础层。

8.如权利要求7所述的防反射膜，其中，所述无机基础层为由折射率在1.35以上2.5以下的透明无机材料构成的单层膜、或由该透明无机材料构成的薄层多层层压的多层膜。

9.如权利要求1所述的防反射膜，其中，在所述中间层表面进行旨在提高对所述涂层液的润湿性的表面处理。

10.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中空二氧化硅粒子的平均粒径在5nm以上100nm以下，

所述中空二氧化硅粒子在其外侧被所述粘合剂覆盖的状态下由所述粘合剂互相粘结，

所述低折射率层内存在所述中空二氧化硅粒子内的中空部以外的空隙部，并且该低折射率层的折射率在1.15以上1.24以下。

11.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述低折射率层表面具备折射率在1.30以上2.35以下且物理膜厚在1nm以上30nm以下的功能层。

12.如权利要求1所述的防反射膜，其中，入射角0度时对于入射波长400nm以上700nm以下的光的反射率在0.5%以下，入射角0度以上45度以下时对入射波长400nm以上700nm以下的光的反射率在1.0%以下。

13.如权利要求1所述的防反射膜，其中，所述基材为光学元件基材。

14.一种光学元件，其特征在于具备权利要求1所述的防反射膜。