[发明专利]一种表面改性的涂层包载药物的人工晶状体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210557206.5 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103071186A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 王迎军;任力;焦艳;郑志雯 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: A61L27/34 分类号: A61L27/34;A61L27/54;A61F2/16
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 宫爱鹏
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 改性 涂层 药物 人工 晶状体 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种表面改性的涂层包载药物的人工晶状体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将带有NHS末端基团的PEG溶于去离子水中,配成PEG-NHS溶液;

(2)将人工晶状体放入PEG-NHS溶液中浸泡;

(3)将浸泡后的人工晶状体放入等离子体设备中,通入氩气,进行等离子体处理,制得改性的人工晶状体;

(4)然后将改性的人工晶状体浸入重组水蛭素溶液中,冲洗后再经真空干燥,得到用水蛭素接枝的具有自清洁作用的人工晶状体。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述重组水蛭素溶液是用Tris-Hcl缓冲液、NaCl和重组水蛭素浓缩液配制的。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述Tris-Hcl缓冲液的pH为7.2~7.5,摩尔浓度为10mmol/L;NaCl的浓度为150mmol/L,所述重组水蛭素的浓度为0.5~1g/L。

4.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,步骤(3)所述等离子体处理过程为:等离子体设备的处理腔抽真空到压力10Pa以下;通氩气后调节流量至处理腔压力为18~25Pa;保压至少5分钟后,打开高频电源,设定放电功率为60~70W,放电时间为5min;放电完毕后,真空干燥。

5.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,步骤(1)所述的带有NHS末端基团的PEG与去离子水的摩尔体积比为1~2mmol/L。

6.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,步骤(2)所述人工晶状体的浸泡时间为1~2h;步骤(4)所述改性的人工晶状体浸入重组水蛭素溶液的时间为3~4h。

7.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,所述带有NHS末端基团的PEG的分子量为1109.3~1609.3g/mol。

8.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,步骤(4)所述冲洗是依次用Tris-Hcl缓冲液和去离子水分别冲洗3次。

9.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,步骤(4)所述真空干燥的温度为37℃,时间为24h。

10.根据权利要求1~9任意一项方法制备的表面改性的涂层包载药物的人工晶状体。

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