[发明专利]一种太阳能选择性吸收涂层的制备方法

权利要求书

1.一种太阳能选择性吸收涂层的制备方法。使用刻蚀技术，在基底上刻出宽度为500nm-600nm、深度为100nm-150nm的沟槽，沟槽呈规则矩齿状。

2.膜层采用金属/陶瓷多层渐变方式，使用磁控溅射法沉积膜层。膜层共有六层，从底层开始，通过控制靶材的溅射速率，实现金属浓度逐渐减小，陶瓷浓度逐渐增大。每层厚度约为200nm-250nm。

3.薄膜选用耐高温金属W、Mo，作为金属层的主要成分，使用Al2O3、SiO2作为陶瓷层的主要成分，使膜层在耐高温方面具有很突出的表现。采用这种膜层成分的膜层，可以在600℃下稳定工作。

4.在渐变膜层的外面，使用真空蒸发镀法，沉积一层Al2O3减反射层。膜层厚度约为1μm，该膜层可以减少渐变薄膜的发射率，同时起到保护作用，减少薄膜的氧化和老化。目前薄膜的吸收率可达到93.8％，且发射率仅为5.1％。