[发明专利]用于背照式图像传感器的装置和方法有效
申请号: | 201210553121.X | 申请日: | 2012-12-18 |
公开(公告)号: | CN103515401A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 陈思莹;王子睿;刘人诚;杨敦年;刘丙寅;赵兰璘 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 背照式 图像传感器 装置 方法 | ||
1.一种方法,包括:
提供第一晶圆,所述第一晶圆包括光有源区和连接至所述光有源区的图像传感器的第一晶体管;
在所述第一晶圆的第一面上形成第一接合焊盘;
提供第二晶圆,所述第二晶圆包括所述图像传感器的逻辑电路以及位于所述第二晶圆的第一面上的第二接合焊盘;
将所述第一晶圆堆叠在所述第二晶圆上;以及
接合所述第一晶圆和所述第二晶圆,其中:
位于所述第一晶圆的第一面上的所述第一接合焊盘电连接至位于所述第二晶圆的第一面上的所述第二接合焊盘;并且
所述图像传感器的所述第一晶体管电连接至所述图像传感器的所述逻辑电路。
2.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在所述第一晶圆的第二面上形成输入/输出部件,其中,所述输入/输出部件连接至所述图像传感器的所述逻辑电路。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述输入/输出部件包括铝铜焊盘。
4.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在接合所述第一晶圆和所述第二晶圆的步骤之后,将所述第一晶圆的第二面减薄至第一厚度。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述第一厚度在大约2um至大约3um的范围内。
6.根据权利要求4所述的方法,进一步包括:
在所述第一晶圆的第二面上形成p+层;以及
对所述p+层施加退火工艺。
7.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:在所述第一晶圆中形成第二晶体管,其中:
所述第一晶体管为所述图像传感器的转移晶体管;
所述第二晶体管为复位晶体管;并且
所述图像传感器的所述第一晶体管、所述图像传感器的所述第二晶体管、形成在所述第一晶圆中的源极跟随器、形成在所述第一晶圆中的选择晶体管以及所述光有源区形成4晶体管背照式图像传感器。
8.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:
在具有第一导电性的衬底上生长外延层;
在所述外延层中注入具有第二导电性的离子以形成第一光有源区;
在所述外延层中注入具有所述第一导电性的离子以形成第二光有源区;以及
减薄所述衬底的背面直到暴露所述外延层。
9.一种装置,包括:
背照式图像传感器器件,包括:
第一晶体管,与所述背照式图像传感器器件的第一面相邻;
第一接合焊盘,形成在所述背照式图像传感器器件的第一面中;
和
光有源区,与所述背照式图像传感器器件的第二面相邻;以及
载体,包括多个逻辑电路以及形成在所述载体的第一面中的第二接合焊盘,其中,所述载体和所述背照式图像传感器器件面对面接合在一起,并且所述第一接合焊盘电连接至所述第二接合焊盘。
10.一种器件,包括:
光电二极管,位于第一衬底中,其中,所述光电二极管与所述第一衬底的第二面相邻;
第一晶体管,形成在所述第一衬底中并且电连接至所述光电二极管,其中,所述第一晶体管连接至形成在所述第一衬底的第一面中的第一接合焊盘;以及
逻辑电路,形成在第二衬底中并且连接至形成在所述第二衬底的第一面中的第二接合焊盘,其中:
所述第二衬底与所述第一衬底接合,并且
所述第二接合焊盘电连接至所述第一接合焊盘。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的