[发明专利]一种线性蒸发源装置

权利要求书

1.一种线性蒸发源装置，用于在基板上沉积薄膜，包括：材料腔室、喷嘴盖和加热源，所述喷嘴盖位于所述材料腔室的上方并具有多个喷嘴，其特征在于：所述加热源的数量为两个或两个以上，均匀分布在所述材料腔室的下方，且每个所述加热源具有独立的控温系统。

2.根据权利要求1所述的线性蒸发源装置，其特征在于还包括膜厚检测装置，所述膜厚检测装置与所述加热源一一对应，设置在所述喷嘴盖的上方靠近所述基板的位置。

3.根据权利要求2所述的线性蒸发源装置，其特征在于还包括温度传感器，所述温度传感器与所述加热源一一对应，设置于所述材料腔室的内壁上；所述控温系统与所述膜厚检测装置以及所述温度传感器电性连接，所述控温系统根据所述膜厚检测装置反馈的膜厚以及所述温度传感器反馈的温度自动调节施加到所述加热源上的电压。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的线性蒸发源装置，其特征在于所述控温系统包括电压源、操作系统和显示屏。

5.根据权利要求2或3所述的线性蒸发源装置，其特征在于所述膜厚检测装置为晶振传感器。

6.根据权利要求1-3中任意一项所述的线性蒸发源装置，其特征在于相邻两个所述加热源的间距为其自身宽度的一半。

7.根据权利要求1-3中任意一项所述的线性蒸发源装置，其特征在于所述加热源为加热丝或加热丝阵列。

8.根据权利要求1-3中任意一项所述的线性蒸发源装置，其特征在于所述喷嘴的形状为孔状和缝状中的一种或两种。

9.根据权利要求1-3中任意一项所述的线性蒸发源装置，其特征在于所述喷嘴由所述喷嘴盖上凸伸出。