[发明专利]一种基于紫外光的干式清洗方法

权利要求书

1.一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于：先利用超声波清洗、高压水喷淋湿式洗净方法除去玻璃基板表面的附着粒子；再对其进行基于紫外光的干式清洗；具体包括以下步骤：

（A）超声波清洗，将待清洗的TFT-LCD玻璃基板经输入传送机传送到超声波清洗装置内，当玻璃基板从清洗槽中通过并在清洗液中浸泡时，玻璃基板上下表面同时被清洗；

（B）高压水喷淋，使玻璃基板通过高压水喷淋装置，利用高压水泵把清洗用水加压到0.5MPa-1.5MPa，再通过喷嘴把高压低流速的水转化成低压高流速的水喷射到玻璃基板表面进行清洗；

（C）气刀吹干，利用从夹缝中吹出的高速气体将玻璃基板表面的水分清除掉； 

（D）红外烘干，采用红外干燥法对TFT-LCD玻璃基板进行二次干燥，红外线照射玻璃基板，将气刀干燥时没有完全除去的残留水分彻底清除；

（E）冷却，采用缓冲收纳装置对玻璃基板进行冷却；

（F）基于紫外光干式清洗，清洗时使基板位于低压水银灯的下方，低压水银灯产生253.7nm和184.9nm波长的紫外线同时照射玻璃基板；首先，在184.9nm的紫外线作用下将空气中的游离氧元素生成臭氧；然后，在253.7nm的紫外线作用下将空气中的臭氧分解生成游离的氧原子，与此同时，有机污染物在紫外线的作用下分解，分解的游离态原子与紫外线照射生成的氧原子结合，形成易挥发的CO₂、H₂O、O₂小分子化合物。

2.根据权利要求1所述的一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于：是不是修改为：所述步骤（F）中，低压水银灯替换为受激准分子紫外灯（Excimer），其产生紫外线的波长为172nm、照射时间保持在18—22秒，反应腔室排气压力是0.08 KPa—0.12KPa。

3.根据权利要求1或2所述的一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于：所述步骤（C）中，气刀的气体吐出口与玻璃基板表面之间距离在3—6mm，气刀的吐出压力设置为0.08MPa—0.12MPa，吐出气体温度为45℃—55℃，气刀与玻璃基板搬送方向的角度设置为18℃—22℃。

4.根据权利要求1或2所述的一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于：所述步骤（A）中，超声波频率控制在28KHz—40KHz，搬运速度为3m/min, 清洗液流量为30L/min。

5.根据权利要求1或2所述的一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于：所述步骤（A）的清洗液和所述步骤（B）的清洗用水为纯水。