[发明专利]异形喷头旋转式磁射流抛光装置有效

专利信息
申请号: 201210549752.4 申请日: 2012-12-17
公开(公告)号: CN102975124A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 程灏波;王谭;陈永 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: B24C3/02 分类号: B24C3/02;B24C5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 异形 喷头 旋转 射流 抛光 装置
【权利要求书】:

1.异形喷头旋转式磁射流抛光装置,包括支架、套筒、上下密封组件、上下轴承组件、转轴、转接件、电机架、电机、上外壳、密封圈、喷头、喷头螺母、线圈架、垫圈、腔盖、线圈、隔磁腔和下外壳;

上述组成部分的连接关系为:

套筒固定在支架内,并实现套筒侧面开口和支架侧面开口同轴导通;转轴通过上下轴承组件转动安装在套筒内,实现转轴相对于套筒的无偏旋转;上下密封组件固定在套筒内,并分布于转轴侧面开口处的上下两侧,在套筒内和转轴之间实现转动密封;转轴上端通过转接件与电机转子固定,电机通过电机架固定安装在套筒上表面;喷头安装在转轴的下端,并用喷头螺母固定;在喷头的入口处通过密封圈与转轴内腔形成密封管路;线圈架通过螺钉固定在套筒的下表面;在腔盖上表面和线圈架下表面之间垫入垫圈,并将腔盖固定在线圈架上;线圈装入隔磁腔内并通过腔盖和隔磁腔卡紧,整体和腔盖固定,实现喷头出口段部分沉入线圈内;上、下外壳分别安装在套筒的上方和下方。整体安装不仅要实现电机转子、转轴、喷头的无偏摆同轴旋转和喷头、线圈之间的同轴,而且要实现液体通路的无阻碍密封。装置整体通过支架固定在精密机床上,以实现喷头整体的精密运动。

发明的异形喷头旋转式磁射流抛光装置的工作过程如下:

工作时,通过数控机床控制喷头整体以一定的姿态运动到指定的位置;电机通过转轴驱动喷头绕其中轴线做无偏摆旋转运动;电磁线圈通电后产生局部的轴向磁场;具有一定压力的抛光液,经过由支架和套筒的侧面通孔、套筒和转轴之间的腔、转轴内通道和喷头组成的内部通路后喷出,经过由通电线圈产生的局部轴向磁场发生磁流变效应,获得稳定的射流束;当稳定的抛光液柱喷射到工件表面后,对工件表面产生去除,实现精确抛光。

2.根据权利要求1所述的异形喷头旋转式磁射流抛光装置,其特征在于:所述喷头为高磁导率耐磨材料,其出口处喷孔具有多种形式,例如特定分布的多孔形式和条形孔形式等,特别的对于特定分布多孔形式的喷头,分布在不同同心圆上的喷孔数量和大小根据实际需要可不同。

3.根据权利要求1所述的异形喷头旋转式磁射流抛光装置,其特征在于:所述旋转轴下端出口和喷头实现间隙配合,特别是紧密配合状态。

4.根据权利要求1所述的异形喷头旋转式磁射流抛光装置,其特征在于:所述垫圈为低磁导率材料,腔盖和隔磁腔为高磁导率材料。

5.根据权利要求1所述的异形喷头旋转式磁射流抛光装置,其特征在于:所述密封组件和密封圈采用特殊耐磨抗压材料制成,能够实现对一定转速和压力系统的密封。

6.根据权利要求1所述的异形喷头旋转式磁射流抛光装置,其特征在于:所述喷头的旋转速度可由电机驱动控制,旋转最大线速度要远远小于喷射速度,电机转子、转轴和喷头能够同轴无偏摆旋转,喷头和线圈同轴,液体通路实现无阻碍密封。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210549752.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top