[发明专利]一种印花平面调整装置

说明书

技术领域

 本发明涉及印花机械设备领域，特别地，是一种布料印花平面的调整装置。

背景技术

将染料或涂料在织物上印制图案的方法有很多种包括（1）直接印花：将各种颜色的花形图案直接印制在织物上的方法即为直接印花，在印制过程中，各种颜色的色浆不发生阻碍和破坏作用。印花织物中大约有80%－90%采用此法。 该法可印制白地花和满地花图案。（2）拔染印花：染有地色的织物用含有可以破坏地色的化学品的色桨印花，这类化学品称为拔染剂。拔染桨中也可以加入对化学品有抵抗力的染料。如此拔染印花可以得到两种效果，即拔白和色拔。（3）防染印花：先在织物上印制能防止染料上染的防染剂，然后轧染地色，印有花纹处可防止地色上染，该种方法即为防染印花，该法可得到三种效果，即防白、色防和部分防染。（4）数码印花。

以上种种印花技术都需要将衣物需印花的区域平整的铺设在印花平台上，由于衣物折叠或者前期未整烫处理完成，印花时，即使将其平铺，其内部纹理或各印花区域的厚薄也不整齐，造成印花效果差，产生印花次品。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种印花平面调整装置，该印花平面调整装置能够使衣物的印花区域均匀的进行印花。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

该印花平面调整装置包括矩形的印花平台，所述印花平台由透明材料制成，所述印花平台的四边上设置有布料调整夹具，所述印花平台的上部及下部均设置有与其平行的第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜，所述第一菲涅尔透镜中心的上方设置有成像器件，所述第二菲涅尔透镜中心的下方设置有光源，所述成像器件与一图像处理逻辑模块建立数据连接，图像处理逻辑模块根据所述成像器件的图像进行图像处理后，得到需要印花衣物的明暗分布图，根据所述明暗分布图调整所述条形布料夹具的位置，达到使布料分布均匀的目的。

作为优选，所述光源为红外线光源，所述成像器件为，红外成像器件。

作为优选，所述布料调整夹具具体为：所述矩形印花平台的四边上均垂直设置有两根相互平行的滑杆，所述每对相互平行的滑杆上均设置有与所述滑杆相垂直的条形布料夹具，所述夹具由两块平板条铰接而成。

作为优选，所述条形布料夹具的长度在对应的矩形印花平台的边长度的1~1.2倍。

本发明的优点在于：

利用所述成像器件与光源的配合，使用光线穿透布料的方式检测布料内部的均匀性，通过检测到的对比图可以相应的调整布料需印花区域的材料均匀度，使印花效果较佳。

 

附图说明

图1是本印花平面调整装置印花平台的立体结构示意图；

图2是本印花平面调整装置的正视剖切结构示意图。

图中：100、印花平台；110、滑杆；200、夹具；400、光源；510、第二菲涅尔透镜；520、第一菲涅尔透镜；600、成像器件。

 

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

在本实施例中，参阅图1和图2，该印花平面调整装置包括矩形的印花平台100，所述印花平台100由透明材料制成，所述印花平台100的四边上设置有布料调整夹具，所述印花平台100的上部及下部均设置有与其平行的第一菲涅尔透镜520、第二菲涅尔透镜510，所述第一菲涅尔透镜520中心的上方设置有成像器件600，所述第二菲涅尔透镜510中心的下方设置有光源400，所述成像器件600与一图像处理逻辑模块（未图示）建立数据连接，图像处理逻辑模块根据所述成像器件600的图像进行图像处理后，得到需要印花衣物的明暗分布图，根据所述明暗分布图调整所述布料调整夹具的位置，达到使布料分布均匀的目的。

所述图像处理为已知的图像二值化处理。

上述的印花平面调整装置，所述光源400为红外线光源，所述成像器件600为红外成像器件。

红外线相对于可见光更容易穿透布料，使整个装置适合任意厚度布料的检测。

参阅图1，所述布料调整夹具具体为：所述矩形的印花平台100的四边上均垂直设置有两根相互平行的滑杆110，所述每对相互平行的滑杆110上均设置有与所述滑杆110相垂直的条形布料夹具200，所述夹具200由两块平板条铰接而成。

上述的印花平面调整装置，所述条形布料夹具200的长度在对应的矩形印花平台100的边长度的1~1.2倍，用于保证需印花的衣物能够完全被所述条形布料夹具200所夹持。

上述的印花平面调整装置的工作原理：