[发明专利]混合型不等间距图形化衬底及其制备方法

权利要求书

1.一种混合型不等间距图形化衬底，包括基本衬底（1），其特征是：在所述基本衬底（1）的正面刻蚀形成以阵列形式排列的凸起周期（2），所述每个凸起周期（2）包括至少两个大小、形状不一的凸起（2b）。

2.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底，其特征是：所述凸起（2b）的形状为半球状、半椭球状、圆锥状或角锥状。

3.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底，其特征是：所述凸起（2b）的直径为0.1~100μm。

4.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底，其特征是：同一个凸起周期（2）中的凸起（2b）之间的距离不等距。

5.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底，其特征是：所述基本衬底（1）采用蓝宝石衬底或碳化硅衬底。

6.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底，其特征是：所述凸起（2b）的高度为0.1~100μm。

7.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底，其特征是：相邻凸起（2b）之间的距离为0.1~100μm。

8.一种混合型不等间距图形化衬底的制备方法，其特征是，采用以下工艺步骤：

（1）制作光刻板，在光刻板上设计若干组不透光区域，每组不透光区域由多个大小不一的不透光圆形区组成，不透光圆形区之间的距离不等距，光刻板的其余部分为透光部分；不透光圆形区的直径为0.1~100μm；

（2）对蓝宝石材质或者碳化硅材质的平面衬底上涂光刻胶，光刻胶的涂胶厚度为0.5～4μm，使用步骤（1）得到的光刻板进行曝光显影，曝光显影后在平面衬底上露出需要光刻的区域，与光刻板相一致的不透光区域被光刻胶覆盖；

（3）对步骤（2）得到的平面衬底进行ICP刻蚀，得到图形化衬底。