[发明专利]泵系统、二氧化碳供给系统、抽取系统、光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 201210548141.8 | 申请日: | 2012-12-17 |
公开(公告)号: | CN103176367A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | M·L·范德盖格;L·H·范德霍伊维尔;A·H·J·A·马登斯;F·J·J·范鲍克斯台尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;F17D1/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 系统 二氧化碳 供给 抽取 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
1.一种二氧化碳供给系统,用于将二氧化碳从源供给至装置,所述二氧化碳供给系统包括:
供给管线,用于二氧化碳从源流至所述装置;
供给管线中的阀,所述阀具有打开位置和关闭位置,其中在打开位置中,气体能够沿着供给管线流动,在关闭位置中,气体沿着供给管线的流动被阻断;和
控制系统,所述控制系统包括:
在供给管线中的第一开关,所述第一开关用于在供给管线中的气体的第一流量或压强下切换,和
在供给管线中的第二开关,所述第二开关用于在供给管线中的气体的第二流量或压强下切换,
其中控制系统配置成在以下情况(i)或(ii)下将阀从打开位置移动至关闭位置:
(i)来自第一开关的信号指示在供给管线中的气体流量高于第一流量或压强高于第一压强;或
(ii)来自第二开关的信号指示在供给管线中的气体流量低于第二流量或压强低于第二压强。
2.根据权利要求1所述的二氧化碳供给系统,其中所述阀是常闭阀。
3.根据权利要求1或2所述的二氧化碳供给系统,其中第一开关、第二开关或第一开关和第二开关两者,在一定的压强下切换。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的二氧化碳供给系统,还包括在供给管线中的质量流控制器。
5.根据权利要求4所述的二氧化碳供给系统,其中所述控制系统被配置成在以下情况(i)或(ii)下切断质量流控制器:
(i)来自第一开关的信号指示在供给管线中的气体流量高于第一流量或压强高于第一压强;或
(ii)来自第二开关的信号指示在供给管线中的气体流量低于第二流量或压强低于第二压强。
6.一种光刻设备,包括:
流体处理系统,用于将液体提供至投影系统的最终元件和正对表面之间的空间,且具有用于在所述空间中的液体的弯液面的径向向外位置处供给气流的第一气体出口;
第二气体出口,所述第二气体出口位于所述第一气体出口的径向向外的位置处,用于将经过温度调整的气流供给至物体上;和
控制系统,所述控制系统包括用于检测在第二气体出口处或第二气体出口上游的流量和/或压强的传感器,所述控制系统配置成在来自传感器的信号指示在第二气体出口处或第二气体出口上游的流量和/或压强低于一定的幅值的情况下停止在液体的弯液面的径向向外位置处的气流的供给。
7.根据权利要求6所述的光刻设备,其中传感器是压强开关或流量开关,所述压强开关或流量开关在第二气体出口处或第二气体出口上游的一定的气体压强或流量下切换。
8.根据权利要求6或7所述的光刻设备,其中流体处理系统还包括位于第一气体出口的径向向外位置处的收集器开口。
9.根据权利要求8所述的光刻设备,还包括位于收集器开口下游的传感器,其中控制系统配置成在来自传感器的信号指示收集器开口下游的流量和/或压强处于一定的范围之外的情况下停止液体的弯液面的径向向外位置处的气流。
10.一种光刻设备,包括:
体积空间,二氧化碳被从二氧化碳供给装置供给至所述体积空间;和
控制系统,所述控制系统包括用于检测对所述体积空间的试图获得的进出和/或不正确的封闭的传感器,所述控制系统配置成在来自传感器的信号指示对所述体积空间的试图获得的进出和/或不正确的封闭的情况下停止二氧化碳至体积空间的供给。
11.根据权利要求10所述的光刻设备,其中所述体积空间由壁界定,且其中传感器被定位成检测壁的一部分的移动。
12.一种光刻设备和一种二氧化碳供给系统,其中:
所述光刻设备是根据权利要求6-11中任一项所述的光刻设备,且二氧化碳供给系统是根据权利要求1-5中任一项所述的二氧化碳供给系统。
13.一种抽取系统,包括:
泵,用于将气体沿着管道泵送至止回阀,所述止回阀配置成在上游压强高于一定的幅值时打开;
压强传感器,用于生成指示在泵和止回阀之间的气压的信号;和
控制器,所述控制器配置成在来自压强传感器的信号指示在泵和止回阀之间的气压低于一定的幅值的情况下生成停止信号。
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