[发明专利]一种改进的基于支持向量机的纳米结构特征尺寸提取方法

权利要求书

1.一种改进的基于支持向量机的半导体纳米结构特征尺寸的方法，该方法包括下述过程：

第1步确定每一个待提取参数的取值范围，生成子光谱数据库；利用训练光谱和支持向量机训练网络进行支持向量机训练；

第2步对每一个待提取参数利用第1步中的训练光谱重复训练多个支持向量机，每一个待提取参数对应的每一个支持向量机的训练终止条件均不相同；

第3步利用每一个待提取参数对应的多个支持向量机，对测量光谱进行映射；

第4步找出每一个待提取参数对应的所有支持向量机映射结果中出现次数最高的一个，该映射结果对应的子区间即被认为是此待提取参数最有可能出现的取值区间；

第5步按照第4步的方法，确定所有待提取参数的子取值区间，建立一个子光谱数据库；

第6步在所述的子光谱数据库中找出与测量光谱最为相似的仿真光谱，该仿真光谱对应的结构参数值即认为是待测结构的参数值。

2.根据权利要求1所述的改进的基于支持向量机的半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，第1步中，训练光谱的获取方法：

将每一个待提取参数对应一个支持向量机，每一个待提取参数的取值范围被划分成多少个子取值范围，则对应的支持向量机输出端包含多少个类，每一个类由一个唯一的数字标示，用来代表一个子区间范围；每一个类对应着一个训练光谱集，一个训练光谱集与一个子区间对应；对每一个子区间中等距离散取多个值，对每一个离散取值点利用正向光学特性建模程序仿真出一条仿真光谱，这些仿真光谱组成的集合即为一个训练光谱集；一个支持向量机所有输出类对应的训练光谱集所包含的总的训练光谱，即为该支持向量机所需要的训练光谱。

3.根据权利要求1或2所述的改进的基于支持向量机的半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，第1步中，子光谱数据库的获取方法：

(1.1)将每一个待提取参数的取值范围划分成多个子取值范围；

(1.2)在每一个待提取参数对应的多个子取值范围中选取一个子取值范围，生成一个子参数取值组合；

(1.3)将每一个子参数取值组合中的子参数取值范围均匀等距离散成多个值，在每一个待提取参数对应的子取值范围中选取一个离散值，所有待提取参数取的离散值组成一个离散值组合，对离散值组合利用正向光学特性建模程序生成一条对应的仿真光谱，所有离散值组合对应的仿真光谱组成一个子光谱数据库。