[发明专利]有机发光显示器件及其制造方法

权利要求书

1.一种有机发光显示器件，包括：

包括多个像素的第一基板和第二基板；

形成在第一基板上的薄膜晶体管；

形成在包括薄膜晶体管的第一基板上的第一绝缘层；

形成在像素区中的第一绝缘层上的滤色器层；

形成在包括滤色器层的第一基板上的第二绝缘层；

形成在第二绝缘层上且由不含氢的材料制成的光补偿层，其中光补偿层接触薄膜晶体管的漏极焊垫；

形成在每个像素区域的光补偿层上的像素电极；

形成在像素电极上以发光的有机发光单元；和

形成在有机发光单元上的公共电极。

2.如权利要求1所述的有机发光显示器件，还包括：

形成在光补偿层上以释放外来物质的多个孔，其中孔是形成在每个像素区的外壁中。

3.如权利要求2所述的有机发光显示器件，其中光补偿层由透明材料制成。

4.如权利要求3所述的有机发光显示器件，其中光补偿层由选自SiN_x、ITO和IZO组成组的材料形成。

5.如权利要求4所述的有机发光显示器件，其中SiN_x的沉积厚度为

6.如权利要求5所述的有机发光显示器件，其中多个孔形成在与滤色器对应的区域中。

7.如权利要求5所述的有机发光显示器件，其中多个孔形成在与滤色器对应的区域中以及在滤色器区域中。

8.一种制造有机发光显示器件的方法，该方法包括：

提供包括多个像素的第一基板和第二基板；

在第一基板的每个像素处形成薄膜晶体管；

在包括薄膜晶体管的第一基板上形成第一绝缘层；

在像素区域中在第一绝缘层上形成滤色器层；

在包括滤色器层的第一基板上形成第二绝缘层；

在混合有SiH₄和N₂的气体环境中，在第二绝缘层上形成由SiN_x制成且由不含氢的材料制成的光补偿层，其中光补偿层接触薄膜晶体管漏极焊垫；

在每个像素区的光补偿层上形成像素电极；

在光补偿层上形成用于发光的有机发光单元；

在有机发光单元上形成公共电极；和

将第一基板结合到第二基板。

9.如权利要求8所述的方法，还包括：

蚀刻光补偿层以形成在每个像素区外壁中形成的多个孔。

10.如权利要求9所述的方法，其中SiN_x具有透光性。

11.如权利要求10所述的方法，还包括：

在混合有SiH₄和NH₃的气体环境中形成SiN_x层，其中通过交替改变混合有SiH₄和N₂的气体环境和混合有SiH₄和HN₃的气体环境来形成SiN_x。

12.如权利要求11所述的方法，其中还包括：

在真空状态下，对形成像素电极之后形成的层执行真空固化达预定时间周期，以经由孔释放包含在所形成的层中的外来物质。

13.如权利要求8所述的方法，其中

光补偿层由透明材料制成。

14.如权利要求8所述的方法，其中光补偿层由选自SiN_x、ITO和IZO组成组的材料形成。

15.如权利要求8所述的方法，其中还包括：

在真空状态下，对形成像素电极之后形成的层执行真空固化达预定时间周期，以经由孔释放包含在所形成的层中的外来物质。