[发明专利]纳米多孔铜薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201210544649.0 | 申请日： | 2012-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN103014626A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 苏江滨;蒋美萍;王红红 | 申请（专利权）人： | 常州大学 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 李媛媛 |
| 地址： | 213164 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 多孔 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.纳米多孔铜薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）采用JGP500A型平衡磁控溅射镀膜系统，先将干净的绝缘载玻片固定在样品盘上作为NPC薄膜的间接衬底，再将纯度为99.99%的铜靶安装在射频源上，并调节衬底与铜靶之间的距离为15cm；
2）关上腔门抽真空至5.0×10-4 Pa，然后通流量为15sccm、纯度为99.999%的高纯Ar气，并保持腔室气压为0.1pa；
3）在室温和施加0V或–100V直流偏压条件下，用RF100W的功率先在绝缘载玻片上预溅射一层金属铜膜，作为NPC薄膜的直接衬底；
4）在室温和施加–100V直流偏压条件下，再用RF100W的功率作进一步溅射沉积，诱导入射铜原子在铜膜衬底表面上进行选择性优先沉积，制备得到NPC薄膜。
2. 根据权利要求1所述的纳米多孔铜薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤3）中的铜膜厚度为30nm，所述步骤4）中NPC薄膜的厚度为120nm。
3. 根据权利要求1或2所述的纳米多孔铜薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤3）中，当施加0V直流偏压时，制备得到的NPC薄膜为多孔的三棱柱状结构，其中三棱柱的截面尺寸为42nm，沟壑宽度为20nm；当施加–100V直流偏压时，制备得到的NPC薄膜为双连续的“三角韧带–孔道”结构，其中三角韧带的截面尺寸为21nm，孔道尺寸为12nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州大学，未经常州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210544649.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
