[发明专利]热蒸发镀膜设备的热蒸发源有效
| 申请号： | 201210544335.0 | 申请日： | 2012-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN102994958A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 张撷秋;肖旭东;陈旺寿;宋建军;刘壮;顾光一;杨春雷 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院;香港中文大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 刘诚;吴平 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸发 镀膜 设备 | ||
1.一种热蒸发镀膜设备的热蒸发源，包括用于沉积薄膜的衬底、用于装载蒸发材料的坩埚，及用于加热所述坩埚的加热组件；其特征在于，所述坩埚上设有多个与所述衬底相对的喷嘴，所述多个喷嘴中的每两个相邻喷嘴之间的距离不全相等。
2.根据权利要求1所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，每个喷嘴的高度与所述喷嘴的开口宽度相等。
3.根据权利要求1所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述多个喷嘴沿直线依次间隔排列，且每个喷嘴到所述衬底的距离相等。
4.根据权利要求3所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述多个喷嘴的数量为奇数，所述多个喷嘴以中间的一个喷嘴的轴线为对称轴镜像分布。
5.根据权利要求4所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，靠近中间的两个喷嘴之间的距离比靠近边缘的两个喷嘴之间的距离大。
6.根据权利要求5所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述衬底与所述多个喷嘴之间的距离为20cm，所述多个喷嘴的数量为13个，所述13个喷嘴之间的距离比依次为3.7：3.9：4.1：4.3：4.5：4.7：4.7：4.5：4.3：4.1：3.9：3.7。
7.根据权利要求5所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述衬底与所述多个喷嘴之间的距离为30cm，所述多个喷嘴的数量为11个，所述13个喷嘴之间的距离比依次为3：4：5：6：7：7：6：5：4：3。
8.根据权利要求4所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述衬底与所述多个喷嘴之间的距离为20cm，设所述衬底的宽度为f，所述多个喷嘴的数量为11个，所述11个喷嘴之间的距离比依次为0.1f：0.1f：(0.05f+5)：（0.9f+1.6）：（0.9f+1.6）：（0.9f+1.6）：（0.9f+1.6）：(0.05f+5)：0.1f：0.1f。
9.根据权利要求4所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述衬底与所述多个喷嘴之间的距离为30cm，设所述衬底的宽度为f，所述多个喷嘴的数量为11个，所述11个喷嘴之间的距离比依次为3：3：(0.2f+2)：（0.05f+4）：（0.05f+4）：（0.05f+4）：（0.05f+4）：(0.2f+2)：3：3。
10.根据权利要求1所述的热蒸发镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所述衬底的材料为玻璃、聚合物、金属、半导体或陶瓷。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳先进技术研究院;香港中文大学，未经深圳先进技术研究院;香港中文大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210544335.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
