[发明专利]乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用有效
申请号: | 201210544285.6 | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN103012755A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 于贵;陈华杰;郭云龙;黄剑耀;刘云圻 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;H01L51/30 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 乙烯 双键 ndi 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
技术领域
本发明涉及乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用。
背景技术
相比传统无机场效应晶体管(FETs),聚合物FETs不仅具有溶液法加工的优势,而其具有制备工艺简单、成本低廉、柔韧性好等优点。可广泛用于存储器、射频电子商标、智能卡、传感器和有源矩阵显示器等方面,将有望成为下一代有机光电子电路的关键元器件。
萘酰亚胺(简称NDI),以其大的共平面结构、强的缺电子能力、以及化学修饰便利等优点深受科研人员的关注。最近,基于NDI单元合成了一系列的小分子和聚合物的有机半导体材料。((1)Chen,Z.H.;Zheng,Y.;Yan,H.;Facchetti,A.J. Am.Chem.Soc.2009,131,8;(2)Huang,H.;Chen,Z.H.;Ortiz,R.P.;Newman,C.;Usta,H.;Lou,S.;Youn,J.;Noh,Y. Y.;Baeg,K.J.;Chen,L.X.;Facchetti,A.J. Am.Chem.Soc.2012,134,10966.))这些材料表现出高的溶解性能,宽的光谱响应范围,搞得光和热稳定性,以及优良电荷传输能力。这类基于NDI单元构建的共轭聚合物一般具有二元的给-受体(D-A)交替结构,通常这些聚合物都是以单键相连构筑的D-A构型的聚合物。
发明内容
本发明的目的是提供一种乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用。
本发明提供的乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物,也即乙烯-NDI大π共聚物(简称NDI基共聚物或PNVTs),其结构通式如式I所示,
所述式I中,所述R均为碳原子总数为6-16的直链烷基或碳原子总数为8-28的支链烷基;Ar为噻吩基、呋喃基、吡咯基、噻唑基、噻二唑基、并二噻吩基、并三噻吩基或苯基;
n为20-200的整数,优选50-100的整数,更优选60。
具体的,所述式I所示聚合物的重均分子量为58.4KDa至64.1KDa,数均分子量为23.7KDa至24.3KDa,聚合物分子量分布指数为2.46-2.64。
所述R中,所述碳原子总数为8-28的支链烷基为2-乙基己基,2-丁基己基、2-己基辛基、2-辛基癸基、2-癸基十二烷基、2-癸基十四烷基或2-十二烷基十六烷基;
本发明提供的制备式I所示共聚物的方法,包括如下步骤:在四(三苯基膦)钯的催化条件下,将式M1所示单体和式M2所示单体置于溶剂中进行钯催化偶联反应,反应完毕得到所述式I所示共聚物,
所述式M1和式M2中,R和Ar的定义与前述定义完全相同。
该方法的合成路线如图1所示。
上述方法中,所述式M1所示单体与式M2所示单体的投料摩尔比为1:1-1.2,优选1:1。
所述四(三苯基膦)钯与所述式M1所示单体和所述式M2所示单体的投料摩尔比均为0.1-0.2:1:1-1.2,优选0.1:1:1。
所述溶剂选自甲苯、氯苯和四氢呋喃中的至少一种,优选甲苯。
所述反应步骤中,温度为80-130℃,具体为110℃,时间为20-60小时,具体为48小时。
上述本发明提供的式I所示共聚物在制备有机场效应晶体管中的应用及以该式I所示共聚物为有机半导体层的有机场效应晶体管,也属于本发明的保护范围。
本发明的优点在于:
1、此聚合路线具有合成成简单高效,原料供应广泛便宜,另外此聚合方法具有推广性高、重复性非常好等优点;
2、不同取代的乙烯-NDI大π共聚物具有等归的DA交替构型和刚性的大π平面结构,能够制备高迁移率的FETs器件;
3、不同取代的乙烯-NDI大π共聚物具有较低的最高占有分子轨道(HOMO)能级(大约-5.60eV),具有很好的抗氧化能力,跟金电极匹配良好,有利于获得高的空穴迁移率的FETs器件;
4、不同取代的乙烯-NDI大π共聚物具有较低的最低未占有分子轨道(LUMO)能级(大约–3.93eV),有利于获得高的电子迁移率的FETs器件;
5、以本发明乙烯-NDI大π共聚物为有机半导体层制备的FETTs展现出良好的双极性传输特征,最高电子和空穴迁移率分别为0.73cm2/V·s和0.12cm2/V·s,在FETs中有良好的应用前景。
附图说明
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